بانک پایان نامه های روانشناسی

بانک پایان نامه های ارشد - رشته روانشناسی - پایان نامه روانشناسی بالینی,پایان نامه روانشناسی عمومی,پایان نامه روانشناسی بالینی,پایان نامه روانشناسی کودکان,پایان نامه روانشناسی استثنائی-با فرمت ورد - متن کامل-

بانک پایان نامه های روانشناسی

بانک پایان نامه های ارشد - رشته روانشناسی - پایان نامه روانشناسی بالینی,پایان نامه روانشناسی عمومی,پایان نامه روانشناسی بالینی,پایان نامه روانشناسی کودکان,پایان نامه روانشناسی استثنائی-با فرمت ورد - متن کامل-

– (85)

1-2-4-مکانیسم انتقال بار در سلولهای حساس شده با رنگدانه111125083502500ابتدا فوتون توسط مولکول رنگدانه جذب و یک الکترون را از حالت پایه رنگ S0 به حالت برانگیخته یعنی S* میبرد. (جذب نور) ) ‏12 ) الکترون برانگیخته شده به باند هدایت TiO2 تزریق میشود و مولکول رنگ به حالت اکسید شده در میآید(S+). (تزریق الکترون) -211010517462500 […]

– (85)

Please enter banners and links.

( ‏11 )121793078105003I- I3- + 2e-
همچنین ترکیبی از یداید مانند یدید لیتیم ،یدید سدیم ، یدید پتاسیم با غلظت 1/0 تا 5/0 مولار از I2 که در محلول غیر-پروتونی مانند استونیتریل حل شده است، بکار رفته است. مقدار کاتیون های یداید مانند Li+، Na+ و K+ هدایت الکترولیت را تحت تأثیر قرار می دهند و میزان جذب یون های مختلف روی سطح TiO2 تغییر می کند و منجربه جابه جایی تراز رسانش TiO2 می شود. این عوامل در کارکرد سلول خورشیدی تأثیرگذار است . ویسکوزیته محلول اثر مستقیمی در رسانش یونی الکترولیت دارد، هر چقدر گرانروی پایین تر باشد بهتر است و در کارکرد سلول تأثیر به سزایی دارد. از میان حلالها نیتریلها هستند که گرانروی پایینی داشته و هدایت یونی بالایی را فراهم می کنند.
1-2-3-الکترود کاتداین الکترود باید دارای خاصیت الکتروکاتالیستی بالایی باشد و بتواند یون های اکسید شده I3- را به I- و بالعکس تبدیل کند. در نتیجه چون این الکترودها نقش کاهشی یون های اکسید شده را دارد باید کاهش با نرخ مناسبی بر سطح این الکترود صورت بگیرد بدین ترتیب بهترین الکترود ،پوششی از پلاتین بر روی FTO است با ضخامتی در حدود 200 نانومتر میباشد.
1-2-4-مکانیسم انتقال بار در سلولهای حساس شده با رنگدانه111125083502500ابتدا فوتون توسط مولکول رنگدانه جذب و یک الکترون را از حالت پایه رنگ S0 به حالت برانگیخته یعنی S* میبرد. (جذب نور)
) ‏12 )
الکترون برانگیخته شده به باند هدایت TiO2 تزریق میشود و مولکول رنگ به حالت اکسید شده در میآید(S+). (تزریق الکترون)
-211010517462500 ( ‏13 )
الکترون برانگیخته به داخل ساختار نانوکریستال TiO2 نفوذ میکند و از طریق لایه اکسید نیمههادی به زیر لایهی رسانا منتقل میشود و سرانجام از طریق مدار خارجی به الکترود مقابل انتقال مییابد.
الکترود مقابل الکترون را به الکترولیت انتقال میدهد و تری یدید موجود در الکترولیت تبدیل به یدید شده و با کاهش رنگ اکسایش یافته توسط الکترولیت رنگ بار دیگر احیا شده و سیکل به پایان میرسد.
-148272519176900( ‏14 )
-160083517081400( ‏15 )
1-2-5- فرآیند های تزریق، انتقال و بازترکیب در سلولهای رنگدانهای طرح واره ای از فرایندهای انتقال و بازترکیب در سلولهای خورشیدی رنگدانه ای در شکل ‏12 نشان داده شده است. این تصویر علاوه بر فرایندهای تزریق، انتقال بار ، فرایندهای اتلاف را نیز نشان میدهد. این اتلافها شامل بازگشت رنگدانه از حالت برانگیخته به حالت پایه و بازترکیب الکترونهای تزریق شده با مولکولهای اکسید شده رنگ و یا جفت ریداکس در الکترولیت میشود. هر مرحلهی انتقال بار، جدایی فضایی بین الکترونها و حفرهها را افزایش داده و طول عمر حالت جدایی بار را افزایش میدهد.

شکل ‏12 . طرح واره ای از فرایندهای انتقال و بازترکیب در سلولهای خورشیدی رنگدانه ایبه منظور تزریق مؤثر، آهنگ تزریق الکترون باید بر آهنگ بازگشت رنگ به حالت پایه غلبه کند. آهنگ نوعی بازگشت رنگدانه از حالت برانگیخته به حالت پایه از مرتبهی 10-7-10-12s است، در سیستمهای شامل لایه اکسید فلزی حساس شده به رنگدانه، آهنگ تزریق برای محدودهای از رنگهای حساس کننده بیشتر از 10-12s گزارش شده است [[8]-[9]]. به هر حال تزریق سریع الکترون نیاز به جفت شدگی الکترونیکی قوی اوربیتال LUMO رنگ به باند هدایت اکسید نیمههادی و تفاوت کافی انرژی آزاد برای پیش بردن این واکنش، دارد.
برای احیای مؤثر رنگدانه توسط الکترولیت آهنگ این فرایند باید بر آهنگ بازترکیب الکترونهای تزریق شده با مولکولهای اکسید شده رنگدانه غلبه کند که این فرایند بازترکیب، شدیداً به چگالی الکترون در نوار هدایت TiO2 و بنابراین شدت نور و ولتاژ سلول بستگی دارد. واکنش احیاء به غلظت یدید و ویسکوزیته الکترولیت و ساختار رنگ نیز بستگی دارد. برای مولکول رنگدانه N719 و الکترولیتی با ویسکوزیته کم مانند استونیتریل[16] واکنش احیاء نیمه عمری برابر با µs1 دارد [7].
در فرایند ترابرد الکترون در ساختار متخلخل TiO2 ،برای جمع آوری کافی بار توسط مدار خارجی، ثابت زمانی انتقال الکترون درون TiO2 باید سریعتر از بازترکیب الکترونهای تزریق شده با جفت ریداکس باشد. انتقال الکترون فرایندی نفوذی است که شدیداً تحت تأثیر به تله افتادن الکترونها در ترازهای زیر گاف انرژی (تلهها) است. در نتیجه این مکانیزم بستگی به سطح فرمی الکترون دارد. زمان انتقال الکترون تحت تابش خورشید از مرتبهی میلی ثانیه است [[10]-[11]].
نتیجهگیریسلول های خورشیدی رنگدانه ای ، نسل سوم از سلول های خورشیدی هستند که بر پایه ی جذب نور توسط مولکول های رنگدانه عمل می کنند وجدایی الکترون- حفره بر روی سطح یک نیمرسانا با گاف انرژی پهن که توسط رنگدانه حساس شده است ، اتفاق می افتد . این سلول ها از دو الکترود کاتد و آند که فضای بین آن ها با الکترولیت اکسایشی – کاهشی یدید پر شده است، تشکیل شدهاند. الکترود آند معمولاً از جنس نانو ذرات تیتانیوم دی اکسید و الکترود کاتد پلاتین است که بر روی شیشه های نیمرسانا شفاف (FTO) نشانده می شوند . یک لایه رنگ به روش شیمیایی روی سطح فوتو آند جذب سطحی می شود ، و به عنوان جاذب نور در این سلول ها به کار میرود. فوتوالکترون تولید شده ناشی از جذب نور توسط رنگدانه به تراز رسانش تیتانیوم دی اکسید منتقل شده و سپس وارد مدار خارجی می شود. رنگدانه با گرفتن الکترون از الکترولیت به حالت پایه باز می گردد. سر انجام با انتقال الکترون از مدار خارجی به الکترولیت، الکترولیت احیا شده و این چرخه برخورد نور دوباره تکرار می شود.
از سال 1991 که اولین نمونه توسط گرتزل معرفی شد، سلولهای رنگدانهای به علت مزایایی از قبیل قیمت پایین ، ساخت ساده و سازگاری با محیط زیست مورد استقبال فراوان قرار گرفت . امروزه بازده این سلولها در مقیاس آزمایشگاهی به بالاتر از %13 رسیدهاست و پیشبینی میشود در آیندهای نزدیک در مقیاس تجاری نیمه تجاری مورد استفاده قرار گیرند.
سلولهای خورشیدی حساس شده با نقاط کوانتومی و مروری بر پیشینه تحقیقاتمقدمههمانطور که در فصل قبل اشاره شد حد ترمودینامیکی برای بازدهی تبدیل نور برای سلولهای تک پیوندی مانند سلولهای خورشیدی لایه نازک و ویفرهای سیلیکونی، تحت تابش خورشید برابر 9/32% میباشد. تلاشها برای غلبه بر این بازدهی منجر به وارد شدن نسل سوم از سلولهای خورشیدی یعنی سلولهای فوتوالکتروشیمیایی (PESC)[17] شد، که این سلولها شامل DSSCs و QDSSCs میباشند که هر دو دسته بازدهی بالا و کاهش هزینه ساخت را دنبال میکنند. در QDSSCs نقاط کوانتومی[18] به عنوان حساسکننده و جاذب نور جایگزین رنگدانه میشوند. نقاط کوانتومی به عنوان حساس کنندهها با توجه به خواص منحصر به فردشان از جمله ضریب جذب قابل توجهشان ، قابلیت تنظیم طیف جذب به وسیلهی محدودیت کوانتومی اندازه، امکان تزریق الکترون داغ [19] و تولید چندین جفت الکترون-حفره (MEG)[20] دریچهای از فرصتها را در این زمینه باز کردهاند. در این فصل ابتدا به بیان مفهوم نقاط کوانتومی و سپس معرفی سلولهای خورشیدی حساسشده با نقاط کوانتومی و عوامل کاهش بازدهی سلولهای تک پیوندی و نحوهی رویکردهای متفاوت ویژگی های نقاط کوانتومی در طراحی و ساخت این سلولها به منظور رسیدن به بازدهی بالاتر می پردازیم.
مفهوم نقاط کوانتومینقاط کوانتومی نانوبلورهای نیمرسانا صفربعدی هستند که قطر فیزیکی آنها کمتر از شعاع بوهراکسایتون[21] است. به این دسته از مواد که اندازه ای کمتر از 100 نانومتر دارند و دارای خواص الکترونی متفاوت از حالت تودهای هستند، نانومواد می گویند . اگر در این مواد تنها در یک بعد به مقیاس نانوکاهش یابد در حالیکه دو بعد دیگرهمچنان بزرگ باقی بماند، به ساختاری میرسیم که به چاه کوانتومی معروف است . اگر دو بعد به مقیاس نانو کاهش یابد و بعد دیگر همچنان بزرگ باقی بماند، ساختار حاصل سیم کوانتومی است . درانتهای فرآیند کوچک کردن اندازه که هر سه بعد به مقیاس زیر نانومتر می رسد، نقطهی کوانتومی حاصل میشود و به عبارت دیگر میتوان نقاط کوانتومی را نانوساختارهای صفربعدی نامید. در نیمههادیهای تودهای سطوح انرژی نوار رسانش و نوار ظرفیت پیوسته است و الکترونها وحفرهها در این نوارهای انرژی حرکت میکنند.

شکل ‏21 . نمودار شماتیک گاف انرژی نانو ذره که بین حالت مولکولی و ماده توده نیمرسانا است.محدودیت کوانتومی برای ذرات نیمههادی هنگامی رخ میدهد که شعاع نانوکریستال قابل مقایسه با شعاع بوهر اکسایتون شود. در نانو کریستال CdSe شعاع بوهر در حدود 4/5 نانومتر است.
عوامل کاهش بازده در سلولهی خورشیدی تک پیوندمهمترین عوامل کاهش بازده در سلولهای خورشیدی عبارتند از:
جذب نشدن فوتونهای با انرژی کمتر از گاف انرژی نیمهرسانا
اتلاف انرژی فوتونهای با انرژی بیشتر از گاف انرژی نیمهرسانا
بازترکیب الکترونها با حفرهها
رویکردهای متفاوت با بهره گرفتن از ویژگیهای نقاط کوانتومی در طراحیQDSSCs
اگر مفاهیم اساسی کاملا متفاوتی در طراحی و ساخت سلول های خورشیدی لحاظ شود، عملکرد آنها تا چندین برابر بهبود مییابد که در این جا به چند نوع از این رویکردها اشاره میکنیم:
2-4-1-تنظیم گاف انرژی در نقاط کوانتومیدر سلولهای پشت سر هم (متوالی) [22] از ویژگی قابل تنظیم بودن گاف انرژی نقاط کوانتومی با اندازهی این ذرات استفاده میشود و در نتیجه میتوان با وجود چندین گاف انرژی در سلول طیف وسیعتری از نور خورشید را در این سلولها جذب کرد.
طیف خورشیدی شامل فوتونهایی با انرژی ev 5/0 تا ev 5/3 است.فوتونهای با انرژی کمتر از گاف انرژی نیمه رسانا جذب نمیشوند در حالیکه فوتونهای با انرژی بیش تر از گاف انرژی نیمهرسانا حاملهای داغ را تولید میکنند که انرژی جنبشی اضافی آن برابر است با Ehʋ-Eg (اختلاف انرژی بین انرژی فوتونهای جذب شده و گاف انرژی نیمهرسانا). مهمترین عاملی که بازده تبدیل را در سلولهای تک گاف انرژی به حد شاکلی-کوئیزر (9/32 %) محدود میکند [21] این است که انرژی فوتونهای پرانرژی به واسطه پراکندگی حامل بار-فونون و در کنار آن گسیل فونون وقتی حامل به لبه نوار مورد نظر خود واهلش میکند، به صورت گرما تلف می شود. یکی از روش ها برای کم کردن چنین اتلاف بازدهی، استفاده از نقاط کوانتومی مختلف که به صورت سلولهای مجزا کنارهم قرار گرفتهاند و گاف انرژیها آنها با طیف خورشید تطابق دارد، میباشد. فوتونهای با انرژی بالا در نقاط کوانتومی با گاف انرژی بزرگتر و فوتونهای با انرژی کمتر در نقاط کوانتومی با گاف انرژی کوچکتر جذب میشوند [[12]]. این نیمهرساناها را به صورت آبشاری کنار هم قرار میدهند یعنی از گاف انرژی بزرگ به سمت گاف انرژی پایینتر در واقع با تغییر اندازه نقاط کوانتومی گاف آنها قابل تغییر است بنابراین طیف جذب شده قابل تنظیم میشود. یک روش دیگر برای تنظیم گاف انرژی نقاط کوانتومی، طراحی آلیاژهای سه تایی چون CdSexS1-x و CdSexTe1-xمیباشد [[13]-[14]] . با تغییر نسبت Se به S یا Se به Te میتوان موقعیت نوارهای انرژی را دستکاری کرد .شکل ‏22 یک سلول خورشیدی پشت سرهم بر پایه نقاط کوانتومی CdSexS1-x را نشان میدهد که با تغییر نسبت Se به S و تنظیم گاف انرژی حالت آبشاری در نوارهای انرژی ایجاد شده است.

شکل ‏22 . (A): تصویر ساختار CdSexS1-x در سلولهای پشت سرهم. (B): نمودار گاف انرژی که نشان میدهد، گافهای انرژی برای بهبود بخشیدن در انتقال بار به صورت آبشاری کنارهم قرار گرفتند. (C): طیف جذب ساختارهایی با نسبتهای متفاوت Se/S و تأثیر این نسبتها بر روی گاف انرژی نقاط کوانتومی [13].2-4-2-اثر حاملهای داغجذب فوتونهای پر انرژی در نیمرسانا، اکسایتونهایی با انرژی جنبشی اضافی تولید میکند. به این حاملهای پرانرژی حاملهای داغ میگویند. برخی از سلولهای خورشیدی بر پایه ی اثر حاملهای داغ طراحی میشوند در این سلولها حاملها قبل از سرد شدن تا دمای محیط، جمعآوری و منتقل میشوند. یکی دیگر از روشهای افزایش بازدهی سلولهای خورشیدی جلوگیری از هدر رفتن حاملهای داغ از طریق واهلش دمایی و گرمایش شبکه وجمعآوری آنها قبل از رسیدن آنها به لبهی نوار به واسطهی گسیل فونون میباشد. (شکل ‏23) دو روش بنیادی برای استفاده از حاملهای داغ و افزایش بازدهی تبدیل فوتون، وجود دارد:
روش اول یک فوتوولتاژ افزایشی ایجاد میکند.
روش دوم یک فوتوجریان افزایشی ایجاد میکند.
در روش اول موقعی که حاملهای برانگیخته برخورد الاستیک با یکدیگر دارند هیچ اتلاف انرژی رخ نمیدهد اما برخورد غیر الاستیک حاملهای برانگیخته با اتمهای نیمهرسانا به واسطهی گسیل فونون منجر به کاهش انرژی و دمای حاملها میشود. جلوگیری از چنین برخوردهایی مانع از گرمایش شبکه میشود و در نتیجه با استخراج حاملهای داغ و افزایش فوتوولتاژ، بازده بسیار بالاتری از حد شاکلی-کوئیزر و در حدود تقریباً 66% بدست میآید. [[15]]
در سلولهای خورشیدی معمولی زمان جمعآوری حاملها از مرتبهی بزرگی فرآیند بازترکیب است. یک سلول با طراحی خوب باید حاملها را قبل از اینکه دما و انرژی بالایشان را در اثر اندرکنش با اتمهای شبکه از دست دهند جمعآوری کند. این کار با چالشهایی رو به رو است ازجمله داغ نگهداشتن حاملها بدون گرم کردن شبکه. به این منظور در سلولها مواد و ساختارهای جاذبی نیاز است که نرخ واهلش حاملها در آنها کم باشد تا توزیعی از حاملهای داغ در آنها وجود داشته باشد که این امر در ساختارهای تودهای به ندرت دیده میشود زیرا پراکندگی حامل-فونون اپتیکی در آنها کمتر از پیکوثانیه رخ میدهد و در نتیجه در چند پیکو ثانیه انرژی حاملهای داغ از دست میرود اما در نانوساختارهایی مانند چاههای کوانتومی و سیمهای کوانتومی و به خصوص نقاط کوانتومی، اثر محدودیت کوانتومی موجب گسستگی ترازهای انرژی میشود و با توجه به اثر گلوگاه فونون[23]، و بنابراین نرخ سرد شدن حاملها کاهش مییابد. در واقع شکافی که در ترازهای انرژی در اثر ساختار نانویی آنها به وجود میآید چندین برابر انرژی یک فونون میباشد این بدین معناست که برای سرد شدن یک الکترون یا حفره برانگیخته و واهلش آن به ترازهای پایینتر انرژی باید چندین فوتون به صورت همزمان گسیل کنند و به وسیلهی پراکندگی الکترون-فونون قانون بقای انرژی ارضا میشود که این خود نیازمند پراکندگی همزمان چند-ذرهای میباشد که با افزایش تعداد فونونهای گسیل شده پدیدهای غیر محتمل می باشد که به این اثر، گلوگاه فونون میگویند.

شکل ‏23 . واهلش/ سرد شدن حاملهای داغ در نیمههادیها و تبدیل انرژی جنبشی حامل به گرما از طریق گسیل فونون2-4-3-تولید چندین جفت الکترون-حفره (اکسایتون)همانطور که در بحث مربوط به حاملهای داغ گفته شد دو روش اساسی برای استفاده از این حاملها وجود دارد که روش اول همانطور که توضیح داده شد بر پایهی استخراج حاملهای داغ قبل از سرد شدن و از دست رفتن انرژی آنها به واسطهی اندرکنش با شبکه می باشد که این منجر به تولید فوتوولتاژ بیشتری میشود. در حالیکه روش دوم مستلزم این است که حامل های داغ پر انرژی به وسیلهی فرایند یونیزاسیون مؤثر[24] چندین جفت الکترون-حفره تولید (MEG) کنند که این موجب افزایش فوتوجریان میشود.
یونیزاسیون مؤثر فرآیندی است که معکوس یک فرآیند بازترکیب اوژه میباشد و در آن بر اثر تابش فوتون یک الکترون-حفره ایجاد می شود و حامل پر انرژی ،با از دست دادن انرژی جنبشی مازاد خود ،الکترون-حفره دیگری ایجاد کرده و خود به تراز پایینتری واهلش میکند.
فرآیند یونیزاسیون مؤثر در نیمهرساناهای تودهای فرآیند مفیدی به حساب نمیآید زیرا در این نوع نیمهرساناها آستانه انرژی فوتون ورودی در آنها بالاست و تا فوتونهای ناحیه فرابنفش طیف خورشیدی جذب نشوند بازدهی کوانتومی آنها بیشتر از یک نخواهد شد و در واقع در این نیمهرساناها انرژی اولیه فوتون از حدی که برای بقای انرژی مورد نیاز است بیشتر است زیرا علاوه بر بقای انرژی باید بقای مومنتوم کریستال نیز حفظ شود. نکتهی دیگر در این فرآیند این است که سرعت یونیزاسیون مؤثر باید با سرعت واهلش حاملها قابل رقابت باشد. در نیمهرساناهای تودهای وقتی انرژی فوتون ورودی به سلول 4-5 برابر گاف انرژی نیمهرسانا باشد، تولید چندین اکسایتون فرآیندی قابل ذکر میشود.
اما در مورد نقاط کوانتومی بنا به دلایل ذیل یونیزاسیون مؤثر که در نقاط کوانتومی آن را تولید چندین اکسایتون(MEG) مینامند فرآیندی مؤثر میباشد و باعث افزایش فوتوجریان ودر نتیجه افزایش بازدهی سلول خورشیدی میشود.
در نقاط کوانتومی به دلیل محدودیت کوانتومی :
جفت الکترون و حفره وابسته هستند و به عنوان یک اکسایتون نسبت به حاملهای آزاد حضور دارند.
در نقاط کوانتومی همچنین سرعت واهلش الکترون از طریق اندرکنش الکترون-فونون در مقایسه با نیمهرساناهای تودهای پایینتر است.
در نقاط کوانتومی لازم نیست بقای مومنتوم کریستال برقرار باشد زیرا برای ذراتی که در سه بعد محدودیت پیدا کردند یک عدد کوانتومی مناسب به عنوان مومنتوم تعریف نشده است.( بنا بر اصل عدم قطعیت هایزنبرگ با مشخص بودن مکان الکترون و حفره در نانوکریستالها به دلیل اندازه کوچک نقاط کوانتومی، مومنتوم آنها نامعلوم میباشد.)
مفهوم افزایش MEG در نقاط کوانتومی در شکل ‏24 نشان داده شده است. در حال حاضر مؤثر بودن آفرینش چندین جفت اکسایتون به وسیلهی یک فوتون فرودی در نقاط کوانتومی 6 مادهی نیمه رسانا:PbSe ،PbS ، PbTe، CdSe، InAs و Si گزارش شده است.[[16]-[17]]

شکل ‏24 . تولید چندین جفت الکترون-حفره (MEG) در نقاط کوانتومی به وسیله یونیزاسیون مؤثر [17].2-4-4-سلولهای خورشیدی با نوار میانییکی دیگر از روشهایی که جهت گذار ار حد شاکلی-کوئیزر به کار گرفته می شود سلولهای خورشیدی با باند میانی هستند، سلولهای دارای باند میانی و چاه کوانتومی این قابلیت را دارند که فوتونهایی با انرژی کمتر از گاف انرژی را نیز جذب و ایجاد الکترون-حفره کنند. این سلولها با بهره گیری از یک ماده که بین دو نیمه رسانای نوع n و p ساندویچ می شود، یک تراز میانی ایجاد میکنند و در واقع گاف انرژی را به دو گاف تقسیم میکند در این سلولها فوتونی با انرژی کمتر از گاف انرژی نیمه رسانا ،الکترونی را برانگیخته کرده و آن را از تراز ظرفیت به تراز میانی میبرد این الکترون در این حالت نیمهپایدار است و توسط فوتون دیگری که انرژی آن نیز کمتر از گاف انرژی نیمه رساناست از نوار میانی به نوار رسانش منتقل می شود و فوتوولتاژی بزرگتر از انرژی فوتونهای ورودی ایجاد میکنند.
سلولهای خورشیدی بر پایهی نقاط کوانتومی (QDSSCs)نقاط کوانتومی، کریستالهای نیمه هادی در مقیاس نانومتری هستند که به دلیل خواص منحصر به فردشان از جمله اثرات کوانتومی اندازه، تغییر طیف جذب با اندازه و شکل،[[18]-[19][ روشهای ساده ساخت و همچنین امکان ایجاد چندین جفت الکترون-حفره به ازای تابش یک پرتو فرودی (طبق پدیدهی اوژهی معکوس) و… در کاربردهای فوتوولتائیک مورد توجه قرار گرفته اند.
در واقع نقاط کوانتومی قادر به جذب فوتونهایی با انرژی بیشتر یا کمتر از گاف انرژی نیز می باشند و هنگامی که فوتونی با انرژی کمتر از گاف انرژی الکترون را تحریک می کند . الکترونها را به ترازهای انرژی پایینتر از گاف یا حالات چاه کوانتومی می برد، این الکترونها شبه پایدار بوده و میتوانند با جذب فوتون دیگری به نوار هدایت بروند و فوتوولتاژی بیشتر از انرژی فوتونهای فرودی ایجاد کنند. این قابلیت در سلولهای دارای باند میانی و چاه کوانتومی دیده شده است. امروزه قابلیت ایجاد چندین جفت الکترون-حفره به ازای تابش یک فوتون به سلول بررسی شده است[[20]].
39814518415005321302556510شکل ‏25 . وابستگی گاف انرژی نقاط کوانتومی به اندازه ی آن ها[3] .00شکل ‏25 . وابستگی گاف انرژی نقاط کوانتومی به اندازه ی آن ها[3] . یکی از ویژگیهای برجسته سلولهای خورشیدی بر پایهی نقاط کوانتومی محدودیت کوانتومی جفت الکترون-حفره (اکسایتون) در نقاط کوانتومی به عنوان مادهی جاذب میباشد که منجر به وابستگی طیف جذبی این مواد به اندازهی آنها میشود هرچه اندازه نقاط کوانتومی کوچکتر باشد شکاف انرژی آن ها بیشتر میشود. (شکل 2-5) به دلیل محدودیت تابع موج الکترونی در ابعاد فیزیکی ذرات، در نانوکریستالهای کوچک سطوح انرژی الکترونیکی پیوسته نیست و گسسته میباشد که تغییرات آشکاری در خواص نوری نیمههادی ایجاد می کند .در نیمه هادیهای تودهای سطوح انرژی هم نوار رسانش و هم نوار ظرفیت پیوسته است و الکترونها و حفرهها به طور آزادانه به هر جهت حرکت میکنند. همان طور که اندازه ذرات کاهش می یابد تأثیر محدودیت کوانتومی به راحتی دیده میشود [[21]].
سلولهای خورشیدی حساس شده با نقاط کوانتومی از لحاظ عملکرد بسیار شبیه سلولهای رنگدانهای عمل میکنند با این تفاوت که به جای رنگدانه، نقاط کوانتومی به عنوان حساس کننده و جاذب نور در ساختار آنها به کار میرود و با توجه به خواص منحصر به فردی که برای نقاط کوانتومی ذکر شد انتظار میرود بازدهی این سلولها، بالاتر از بازدهی سلول‌های رنگدانهای باشد به طوری که بیشترین بازدهی تئوری سلول‌های مبتنی بر نقطه کوانتومی، طبق محاسبات شاکلی- کوئیزر برابر با 44% تخمین زده شدهاست که بیشتر از بازدهی 31% مربوط به سلول‌های خورشیدی رنگدانهای میباشد [[22]].
2-5-1-ساختار و اصول عملکرد سلول های خورشیدی بر پایهی نقاط کوانتومی شکل ‏26 شمای کلی از این سلولها را نشان میدهد، یک QDSSC شامل یک ساختار نیمه هادی مزوپروس با گاف انرژی پهن می باشد (معمولاً تیتانیوم اکسید) که بر روی یک زیر لایه از اکسید رسانای شفاف لایه نشانی شدهاست و این لایهی متخلخل TiO2 یک سطح میکروسکوپی فراهم می کند که چندین مرتبه از سطح هندسی آن بزرگتر است و بستری مناسب برای جذب جاذبهای نور بیشتر که در اینجا نقاط کوانتومی هستند فراهم میکند. این سطح با لایهای نازک از نانوکریستالهای نیمه هادی( نقاط کوانتومی) با گاف انرژی باریکتر حساس می شود و به همراه یک الکترود مقابل و محلول الکترولیت اکسایشی-کاهشی یک سلول را تشکیل میدهند.

شکل ‏26 .شمای کلی QDSSCs و نحوهی عملکرد آنها [[23]]نقاط کوانتومی با تابش نور، جفت الکترون – حفره تولید میکنند و الکترون برانگیخته شده در نقاط کوانتومی به نوار هدایت TiO2 تزریق میشود و به الکترود آند نفوذ میکند و جریان در مدار خارجی بر قرار میشود. حفره به جای مانده در نوار ظرفیت نقاط کوانتومی از طریق دریافت الکترون از جفت اکسایش- کاهش موجود در الکترولیت به حالت پایه خود بر میگردد بنابراین نقاط کوانتومی اکسید شده توسط الکترولیت احیا می شوند و گونه های اکسید شده در الکترولیت توسط الکترود مقابل احیا می شوند و مدار کامل میشود.
2-5-2-اجزای مختلف سلول خورشیدی بر پایه نقاط کوانتومی2-5-2-1-الکترود آندفوتوآند برای این نوع سلولهای خورشیدی همانند سلولهای رنگدانهای شامل لایهای مزوپروس از اکسیدهای نیمههادی با شکاف انرژی پهن از جمله ZnO ،TiO2 ،SnO2 به صورت نانو ساختارهای مختلف مانند: نانوذرات، نانو میلهها، نانوسیمها و نانو لولهها میباشد که وظیفهی جذب نقاط کوانتومی را با ایجاد سطحی وسیع به واسطه ی نانوساختار بودن بر عهده دارند و همچنین به واسطه ساختار متخلخل آنها الکترولیت به راحتی داخل آن نفوذ میکند. در این تحقیق از نانوذرات TiO2 با اندازه ذرات حدوداً 20 نانومتر به عنوان لایهی شفاف بر روی سطح FTO پوشش داده شده است که در شکل ‏27 تصویر FESEM[25] مورفولوژی و اندازه و تخلخل این لایه مشهود است.

شکل ‏27 . تصویر FE-SEM مربوط به نانوذرات 20 نانومتری دی اکسید تیتانیوم بر روی زیر لایهی FTO2-5-2-2-نقاط کوانتومی به عنوان حساس کننده و جاذب نورسلول های خورشیدی، نیاز به مواد جاذب نوری دارند که بتوانند حامل های بار تولید شده توسط نور را از یکدیگر جدا کنند(الکترون- حفره)که در سلول های نقطه کوانتومی، این وظیفه بر عهده نقاط کوانتومی میباشد. تا به امروز مواد نیمه هادی بسیاری ازجمله InAs،InP ،PbSe ، PbS، CuS، CuInS2، CdTe ، CdSe، CdS، Sb2S3، Bi2S3 و Ag2S به عنوان نقاط کوانتومی ساخته شدهاند و بر روی نانو ساختارهایی با گاف انرژی بزرگ به عنوان جاذب نور پوشش داده شدهاند. که این مواد فوتونها را در محدودهی وسیعی از طیف خورشیدی جذب میکنند. به علت ویژگیهای خاص این مواد از جمله ضریب خاموشی در ناحیه نزدیک مادون قرمز، پهن بودن طیف پاسخ حساسکنندهها، گشتاور دو قطبی ذاتی بالا که منجر به جدایش سریع بارها درآن میشود، تنظیم طیف جذب به وسیلهی تغییر در اندازه و شکل آنها ، تزریق الکترون داغ و تولید چندین اکسایتون به عنوان جایگزینی مناسب برای رنگدانهها مورد توجه قرار گرفتند[[24]].
نقاط کوانتومی به دو روش متفاوت ساخته میشوند:
رشد خارج از ساختار
رشد داخل ساختار
از جمله در حالت رشد خارج از ساختار نقاط کوانتومی به شکل کلوئیدی [[25]] و به صورت تک اندازه در خارج از ساختار آند ساخته میشوند و سپس به صورت مستقیم و یا از طریق مولکولهای اتصال دهنده به نیمه هادی با شکاف انرژی پهن متصل میشوند (شکل ‏28).
از جمله روشهای داخل ساختار که در واقع در این روش نقاط کوانتومی بر روی سطح نیمه هادی با گاف انرژی پهن (آند) به صورت جزیرهای و نا همگن رشد مییابند وهمچنین اندازه ذرات در ابعاد مختلف و قابل کنترل نیست میتوان به روشهای لایه نشانی حمام شیمیایی (CBD) [26] و جذب و واکنش پی در پی یونی (SILAR)[27] اشاره کرد.
در روش رشد در خارج از ساختار پس از ساخت نقاط کوانتومی دو روش برای جذب این نقاط بر روی سطح نیمه هادی اکسید شده وجود دارد. یکی روش جذب مستقیم و دیگر به وسیلهی مولکول اتصال دهنده .یکی از سادهترین روشها ، روش پوشش الکتروفورتیک میباشد که معمولاً زیرلایهی رسانا با مولکولهای پذیرنده الکترون پوشش داده شده و در محلول نقاط کوانتومی آلی غوطه ور میشود و در روش جذب مستقیم کافی است که الکترود با پوشش اکسید نیمه هادی وارد محلول کلوئیدی میشوند که در این روش انتخاب حلالی که نقاط کوانتومی در آن غوطهور است بسیار مهم است. مولکولهای اتصال دهنده همچنین از جذب بیش از حد نقاط کوانتومی نیز جلوگیری میکنند و معمولاً مولکولهای دو عاملی هستند که از دو طرف به مواد متصل میشوند از طریق گروه کربوکسیلی (COOH -) به TiO2 و از طریق گروه تیول(-SH) به نقاط کوانتومی متصل میشوند [[26]].

شکل ‏28 . دو روش جذب مستقیم و جذب به واسطهی مولکول اتصال دهنده [25] .-روش پوشش دهی حمام شیمیایی( CBD )
در روش CBD جوانهزنی و رشد نقاط کوانتومی در یک مکان انجام میشود در این روش یک محلول کاتیونی و یک محلول آنیونی به طور جداگانه آماده شده و در نهایت در یک ظرف قرارداده میشوند تا یک حمام محلول برای یک واکنش آهسته تشکیل شود. نقاط کوانتومی روی سطح نیمه هادی با گاف انرژی پهن به وسیلهی غوطه ور کردن الکترود درون حمام محلول در یک بازه زمانی مشخص رشد داده میشوند. بنابراین پوشش نقاط کوانتومی با تغییر زمان غوطه ور کردن قابل کنترل است. این روش مزایای زیادی دارد از جمله: پایداری مواد حاصل، استحکام چسبیدن ذرات، یکنواختی و قابلیت نسبتاً خوب ساخت مجدد ، با این حال رشد نقاط کوانتومی به شدت به شرایط رشد از جمله: مدت زمان لایه نشانی، ترکیب محلول، دما و ویژگیهای لایهی مزوپروس وابسته است [[27]]. روش حمام شیمیایی معمولاً جهت پوشش دادن فیلمهای سولفید فلزی و سلنید فلزی برروی نیمههادی با گاف انرژی پهن به کار رفته است [[28]]. برای نقاط کوانتومی سولفیدی روش CBD معمولاً بر اساس آزاد کردن آرام یون S2- از تیوره[28] میباشد. برای سلنید معمولاً سدیم سولفیت (Na2SO3) برای احیای سلنیوم وتشکیل کمپلکس سدیم سلنا سولفیت (Na2SeSO3) به کار میرود که باعث میشود Se2- به آرامی در حضور کاتیونهای فلزی Cd2+ و Pb2+ آزاد شود [[29]].
-روش جذب و واکنش پی در پی یونی (سیلار)
در روش سیلار پیشمادههای کاتیون و آنیونی در ظرفهایی جدا هستند. برای هر سیکل لایه نشانی الکترود نانوساختار در محلول حاوی کاتیون فلزی غوطهور میشود و سپس به منظور جدا شدن یونهایی که به طور کامل جذب نشدند و پیوند سستی با زیرلایه دارند الکترود در محلول شستشو که تشکیل شده از حلالهای مربوطه است شستشو داده می شود و بعد از شستشو الکترود در محلول پیشمادهای دوم یعنی محلول حاوی آنیون غوطهور میشود و پس از مرحله شستشو دوم یک سیکل سیلار کامل میشود، بعد از هر مرحله شستشو لایه با فشار هوا خشک میشود. متوسط اندازه ذرات و ضخامت لایه به وسیلهی تعداد سیکلهای لایه نشانی قابل کنترل است. این روش که بر پایه جذب سطحی و واکنش بین یونها میباشد معمولاً برای آمادهسازی سولفیدهای فلزی به کار میرفت اما، اخیراً برای پوششهای سلنید فلزی و تلورید نیز گسترش یافته است [[30]]. گزارش شده است که روش سیلار نسبت به CBD روشی بهتر است که از دلایل آن: زمان کوتاه فرایند و آرایش استوکیومتری نزدیک میباشد [[31]].

شکل ‏29 .روش لایه نشانی سیلار به صورت شماتیک [[32]].2-5-2-3-الکترولیت اکسایشی کاهشی پلی سولفیداز آنجایی که عملکرد QDSSC بسیار مشابه به DSSC میباشد، پیشینهی مطالعات قابل توجه روی سلولهای رنگدانهای موجب سرعت بخشیدن به پیشرفت سلولهای کوانتومی شده است اگرچه الکترولیت اکسایشی-کاهشی حاوی زوجهای ریداکس یداید/تری یداید( I-/I3-) عملکرد قابل ملاحظهای در سلولهای رنگدانهای داشتند به دلیل ویژگی خورندگی این الکترولیتها در حضور نقاط کوانتومی، نمی توانند در سلوهای حساس شده با نقاط کوانتومی به کار روند، مگر این که با پوششی از نیمههادی به کار رفته در سلول (TiO2 یا ZnO) محافظت شوند. برای سلولهای حساسشده با نیمههادیها (SSSCs)[29] الکترولیتهای حاوی جفت اکسایش-کاهش جایگزین مانند S2-/Sn2- [[33]،[34]،[35]] و Fe(CN)64-/3- [[36]] در حلالهای آبی و همچنین الکترولیتهایی برپایهی کبالت (Co) [[37]] در حلالهای آلی ارائه شده است.
جفت ریداکس سولفید/پلی سولفید در حلالهای آبی و حلالهای آبی/آلی برای پایداری نقاط کوانتومی گزارش شده است. در حال حاضر پلی سولفید متداولترین الکترولیت برای QDSCs میباشد. در این الکترولیتها کمپلکس شیمیایی گونههای سولفور در آب میتواند منجر به واکنشهای نامتناسب تولید SO32- و SO42- شود و بنابراین موجب مصرف زوج ریداکس در الکترولیت میگردد [[38]]. با این حال این الکترولیت در عملکرد و پایداری نقاط کوانتومی CdS نقش مؤثری دارند [[39]-[40]].
2-5-2-4-الکترود مقابلاولین الزامات برای موادی که به عنوان کاتد در سلولهای خورشیدی رنگدانهای به کار میروند، مقاومت کم آن در مقابل انتقال بار، مقاومت کم درسطح مشترک کاتد و الکترولیت و همچنین چگالی جریان بالا در زمان تبادل بار برای کاهش گونهی اکسید شدهی الکترولیت میباشد. مناسبترین ماده که به عنوان یک کاتالیزور و کاتد مؤثر عمل میکند و چگالی جریان بالایی در تبادل الکترون فراهم میکند در حال حاضر پلاتین (Pt) است. محققان در تلاش هستند که از مواد دیگری چون پودر کربن که در مقایسه با پلاتین کمهزینه است به عنوان الکترود کاتد استفاده کنند ولی به دلیل مقاومت الکتریکی بالای آن در مقایسه با Pt عملکرد ضعیفی دارد [[41]-[42]].
پلاتین و دیگر فلزات نجیب در تماس با الکترولیت آبی پلی سولفید کاتالیستهای مناسبی نیستند و قابلیت قابل ملاحظهای نیز برای این احیای الکترولیت ندارند زیرا ترکیبات گوگرد (S2-) بر روی پلاتین جذب شیمیایی میشوند و رسانایی ، نرخ انتقال الکترون ، فعالیت الکتروکاتالیستی و سطح مؤثر الکتروشیمیایی کاتد را کاهش میدهد و موجب برگشت الکترون به فوتوآند میشود. این اثرات مستقیماً بر روی چگالی جریان و فاکتور کارکرد (FF)[30] سلول تأثیر گذاشته و آنها را تضعیف می کند [[43]-[44]].
محققان به دنبال جایگزین کردن کاتدی مؤثر برای QDSCs میباشند که در کنار الکترولیت پلی سولفید به خوبی عمل کند، به همین منظور کاتدهای متفاوتی از جمله CoS، CuS، NiS، Au، PbS و کربن مورد بررسی قرار گرفتند[[45]،[46]،[47]،[48]،[49]،[50]،[51]،[52]،[53]،[54]]. نتایج بررسیها حاکی از فعالیت کاتالیستی ضعیف کربن، طلا، پلاتین، NiS دارد، در حالیکه بهترین نتایج برای CoS و CuS بدست آمد. اندازهگیریهای پایداری کوتاه مدت و دراز مدت در حضور فوتوآند نشان میدهد که الکترودهای CoS و CuS وارد الکترولیت و متعاقباً وارد فوتوآند میشود و آنها را آلوده میکنند و درواقع خودشان به دلیل جدا شدن از سطح کاتد مرکز بازترکیب در سلول می شوند [[55]]. بررسیها روی نانوساختارهای PbS نشان داده است که از لحاظ فعالیت کاتالیستی این کاتد شبیه CoS و CuS میباشند اما پایداری کمتری دارد [38].
2-5-3-برهمکنشهای انتقال و عبور الکترون-حفره در سلول های خورشیدی بر پایه نقاط کوانتومیپس از جذب نور و برانگیختگی جفت الکترون-حفره (معادله 2-1) به شکل یک اکسیتون یا به عبارتی یک جفت متصل شده به هم با نیروی الکترواستاتیکی در میآیند. اگر انرژی پیوند مشخصه اکسیتون ماده، کمتر از انرژی حرارتی موجود در سیستم باشد، اکسیتون به حامل‌های آزاد تفکیک می‌شود و در فصل مشترک بین نیمه هادی و نقطه کوانتومی و الکترولیت جدایش بار اتفاق میافتد .[[56]] (معادله 2-2)
(‏21) + hυ→ QD* Quantum Dot(QD)
(‏22) QD*→ QD (e-* +h+*)
الکترون میتواند از یک تراز برانگیخته در نقطه کوانتومی به TiO2 منتقل شود که این فرآیند، تزریق الکترون برانگیخته[31] نامیده میشود. (معادله 2-3)
(‏23) QD(h+) + TiO2(e-*) → + TiO2 QD (e-* + h+*)
در غیاب این واکنش الکترونها و حفره های برانگیخته شده ، ترازهای شبه پیوستهای در بالا (پایین) لبهی نوار هدایت (ظرفیت) ایجاد کرده و با از دست دادن بخشی از انرژی پتانسیلشان به گرما به کمترین وضعیت انرژی در لبه ی نوار هدایت (ظرفیت) حرکت میکنند. (معادله 2-4)
(‏24) QD (e- + h+) + heat ) → QD (e-* +h+*
فوتوالکترون تولید شده میتواند از QD به TiO2 منتقل شود و منجر به جدایش بار فضایی[32] شود. (معادله 2-5)
(‏25) QD (e- + h+) + TiO2 → QD(h+) + TiO2(e-)
در رقابت با این واکنش دو جریان باز ترکیبی وجود دارد که کل انرژی پتانسیل را به فوتون یا گرما به ترتیب از طریق تابشی یا غیر تابشی تبدیل میکند. (معادله 2-6)

(‏26) QD + hυ → QD (e- + h+)
(‏27) QD + heat → QD (e- + h+)
همچنین یک مسیر دیگر جهت به دام انداختن الکترون وجود دارد که به موجب آن الکترون می تواند باعث کاهش مولکول الکترولیت شود. (‏28)
(‏28) QD (e- + h+)+ electrolyte → QD(h+) + electrolyte(e-)
به دلیل ماهیت نانو ساختار TiO2 که سطح مؤثر زیادی دارد، اغلب اوقات، الکترون‌های تزریق شده به یک ذره TiO2 از نقطه کوانتومی مجاور، باید قبل از رسیدن و جمع شدن در FTO ، از تعداد زیادی ذره TiO2 (انتقال دهنده‌های الکترون) عبور کنند. (‏29)
(‏29) { TiO2(e-)}nearest neighbor → (e-) TiO2
در طول مسیر رسیدن الکترونها به الکترود کار ممکن است الکترونها در جریان بازترکیب در سطح مشترک بین TiO2 وQD شرکت کنند. (‏210)
(‏210) QD+TiO2 +light/heat →+QD(h+) TiO2(e-)
همچنین ممکن است الکترون‌ها به مولکول‌های الکترولیت که در اتصال با TiO2 هستند، منتقل شوند و منجر به کاهش الکترولیت شوند. (‏211)
(‏211) + electrolyte (e-) TiO2→+ electrolyte (e-) TiO2
بعد از گذر کامل الکترون از شبکهی TiO2 ،الکترونها در نهایت به الکترود کاری (WE) که به مدار خارجی متصل است، منتقل میشود. اگر هر بخشی از سطح الکترود کار در تماس با الکترولیت باشد امکان بازترکیب الکترون با الکترولیت وجود دارد. (‏212)
(‏212)
+ electrolyte → WE+ electrolyte(e-) WE(e-)

Related posts:

– (86)

عوامل مؤثر بر سایش عبارتند از: سرعت جریان، رژیم جریان، تعداد فازهای جریان، میزان و یا غلظت فاز جامد در جریان (غلظت دانه های شن معلق در فاز مایع یا گاز)، اندازهی ذرات جامد، اندازهی قطرات مایع معلق در گاز، میزان تیزی دانههای شن و ماسه، زاویهی برخورد ذرات با دیوارهی تجهیزات، ژئومتری و هندسه […]

– (86)

Please enter banners and links.

2-1- تعاریف سایش و خوردگیهمانطور که در قسمت قبل اشاره شد، سایش به فرآیند جدا شدن ماده از سطح لوله و تجهیزات در اثر واکنش مکانیکی گفته میشود. هنگامیکه ذرات جامد موجود در سیال با دیوارهی داخلی لولهها و سایر تجهیزات انتقال برخورد میکنند، چنانچه دارای سرعت و قدرت مناسب باشند، مطابق شکل زیر، باعث ساییده شدن مجرای عبور سیال میشوند.
3365542291000699770287655Fluid flow
00Fluid flow
4616451390650Before impact
00Before impact
228219012077690027451055753100032912051378585After impact
00After impact

شکل (2-1). مکانیسم فرایند سایشسایش به عنوان یکی از مهمترین مشکلات موجود در فرایند تولید بشمار میآید. سایش در زانوییها، واحدهای متهزنی، و دیگر تجهیزات سر چاه میتواند اتفاق بیفتد. متغیرهای ذاتی پدیدهی سایش، استفاده از زانوییها را در طراحی و توسعهی تجهیزات تولید هیدروکربن را با مشکل روبه رو ساخته است [3].
خوردگی طبق تعریف، واکنش شیمیایی یا الکتروشیمیایی بین یک ماده، معمولأ یک فلز، و محیط اطراف آن می‌باشد که به تغییر خواص ماده منجر خواهد شد. خوردگی، اثر تخریبی محیط بر فلزات و آلیاژها میباشد. خوردگی، پدیدهای خودبهخودی است و همه مردم در زندگی روزمره خود، از بدو پیدایش فلزات با آن روبرو هستند. در واقع واکنش اصلی در انهدام فلزات، عبارت از اکسیداسیون فلز است. فرآیند خوردگی و یکی از مهمترین آن خوردگی سایشی در صنعت، آثار زیان بار اقتصادی عظیمی را موجب میشود و یکی از دلایل شروع آن، سایش میباشد و برای کاهش آن کارهای زیادی میتوان انجام داد. با توجه به اینکه از لحاظ ترمودینامیکی مواد اکسید شده نسبت به مواد در حالت معمولی در سطح پایین‌تری از انرژی قرار دارند، بنابراین تمایل رسیدن به سطح انرژی پایین‌تر سبب اکسید (خورده) شدن فلز می‌گردد. خوردگی یک فرایند خودبهخودی است، یعنی به زبان ترمودینامیکی در جهتی پیش می‌‌رود که به حالت پایدار برسد. به طور مثال اگر آهن را در اتمسفر هوا قرار دهیم، زنگ میزند که یک نوع خوردگی و پدیدهای خودبهخودی است. انواع مواد هیدروکسیدی و اکسیدی نیز میتوانند محصولات جامد خوردگی باشند که همگی گونهی فلزی هستند[29].
خوردگی معمولأ فرایندی زیان‌آور است، لیکن گاهی اوقات مفید واقع می‌شود. بطور مثال آلودگی‌ محیط به محصولات خوردگی و آسیب دیدن عملکرد یک سیستم از جنبه‌های زیان آور خوردگی، و تولید انرژی الکتریکی در یک باطری و حفاظت کاتدی سازه‌های مختلف از فواید آن میباشد. اما تأثیرات مخرب و هزینه‌های به بار آمده بواسطهی این فرآیند به مراتب بیشتر است. با نگاهی به آمار منتشر شده از خسارات مستقیم و غیر مستقیم خوردگی به اقتصاد کشورها می‌توان به هزینه‌های سرسام‌آور این پدیده پیبرد. در ایران نیز پدیده خوردگی خسارات قابل توجهی را در صنایع گوناگون بوجود آورده است. بر اساس برخی بررسی‌های غیر رسمی، زیان اقتصادی مستقیم ناشی از خوردگی در ایران در سال 1373 حدود 5000 میلیارد ریال، در سال 1375 حدود 9000 میلیارد ریال و در سال 1379 حدود 27500 میلیارد ریال برآورد شده است.
2-2- انواع خوردگیخوردگی را به دو دستهی تر و خشک می‌توان تقسیم نمود. مکانیزم خوردگی تر، الکتروشیمیایی است. خوردگی خشک به واکنشهای گاز جامد و در درجه حرارتهای بالا گفته میشود. در صنعت حفاری خوردگی تر مورد بحث میباشد. خوردگی آهن در الکترولیت گل حفاری و سیالات دیگر از انواع خوردگی تر می‌باشد. هرچه قدرت هدایت الکتریکی سیال بالاتر باشد، جریان عبوری بیشتر و میزان خوردگی بالاتر خواهد بود. در ادامه به طور خلاصه به معرفی انواع خوردگی پرداخته میشود[29].
تقسیم بندی جزئیتر انواع خوردگی به طور خلاصه شامل موارد زیر میشود:
1- خوردگی گالوانیک
2- خوردگی یکنواخت
3- خوردگی پیل غلظتی
4- خوردگی حفرهای
5- خوردگی بین دانهای
6- خوردگی تحت تنشی
7- خوردگی سایشی
2-2-1- خوردگی گالوانیک[8]
خوردگی گالوانیک وقتی رخ میدهد که دو فلز یا آلیاژ متفاوت ( یا دو مادهی متفاوت دیگر همانند الیاف کربن و فلز ) در حضور یک ذرهی خورنده با یکدیگر تماس پیدا کنند. در منطقه تماس، فرایندی الکتروشیمیایی به وقوع میپیوندد که در آن مادهای به عنوان کاتد عمل کرده و مادهی دیگر آند میشود. در این فرآیند کاتد در برابر اکسیداسیون محافظت شده و آند اکسید میشود.
2-2-2- خوردگی یکنواخت[9]
در خوردگی یکنواخت سطح اغلب فلزات در محیط خورنده به صورت یکنواختی دچار خوردگی میشود. این نوع خوردگی در اثر تغییر پیوسته مکان کاتد و آند در سطح فلز، به علت پولاریزاسیون[10] ایجاد میشود. قدرت تخریب و اهمیت این نوع خوردگی از انواع دیگر کمتر است. خوردگی فولاد در هوای مرطوب اغلب از این نوع است.

شکل (2-2). خوردگی یکنواخت سطح لوله های حفاری [29]
2-2-3- خوردگی پیل غلظتی[11]
به خوردگی پیل غلظتی، خوردگی زیر رسوبات نیز میگویند. خوردگی اکسیژنی نیز از انواع خوردگی غلظتی به شمار میآید. پوشیده شدن قسمتی از سطح لولههای حفاری توسط گل، محصولات خوردگی و لاستیک حلقوی محافظ لولهها باعث ایجاد این نوع خوردگی میشود. اختلاف غلظت اکسیژنی ناحیه پوشیده شده توسط رسوبات و ناحیهی آزاد باعث شده که سطح زیر این رسوبات آند و بقیهی لوله کاتد شود.
2-2-4- خوردگی حفره ای[12]
خوردگی حفره ای تقریبأ همیشه به وسیله یونهای کلر و کلرید ایجاد میشود و به ویژه برای فولاد ضد زنگ[13] بسیار مخرب است؛ چون در این خوردگی، سازه با چند درصد کاهش وزن نسبت به وزن واقعیاش، به راحتی دچار شکست میشود. معمولأ عمق این حفرات برابر یا بیشتر از قطر آنهاست و با رشد حفرات، ماده سوراخ میشود.
2-2-5- خوردگی بین دانه ای[14]
خوردگی بین دانهای وقتی رخ میدهد که مرز دانهها در یک فلز پلی کریستال به صورت ترجیحی مورد حمله قرار میگیرد. چندین عامل میتواند آلیاژی مثل فولاد ضد زنگ را مستعد این نوع خوردگی سازد؛ از جمله حضور ناخالصیها و غنی بودن یا تهی بودن مرزدانه از یکی از عناصر آلیاژی.
2-2-6- خوردگی تحت تنشی[15]
خوردگی تحت تنشی وقتی رخ میدهد که مادهای تحت تنش کششی در معرض یک محیط خورنده قرار گیرد. ترکیب این عوامل با هم، ترکهایی را در قطعه تحت تنش ایجاد میکند.
2-2-7- خوردگی سایشی[16]
این نوع خوردگی وقتی رخ میدهد که محیطی نسبت به یک محیط ثابت دیگر حرکت کند. ( به عنوان نمونه مایعی که درون یک لوله جریان دارد.) یک پدیدهی مرتبط با این گونه خوردگی، فرتینگ[17] است که هنگام تماس دو ماده با یکدیگر و حرکت نسبی آنها از جمله ارتعاش به وجود میآید. این عمل میتواند پوششهای ضد خوردگی را از بین برده و باعث آغاز خوردگی شود. خوردگی سایشی یکی از انواع مختلف سایش است که بطور کامل در قسمتهای بعد مورد بررسی قرار خواهد گرفت [29].
2-3- مکانیسمهای سایشدو نوع مکانیسم اولیه سایش وجود دارد. اولین مورد در اثر برخورد مستقیم بوجود می‌آید. معمولأ بیشترین خسارت در اتصالاتی نظیر زانوییها و سه‌راهیها ( اتصالات T شکل) که جهت جریان را تغییر می‌دهند، اتفاق می‌افتد. ذرات موجود در سیال می‌توانند انرژی کافی بدست آورده و خطوط جریان را قطع نموده و به دیوارهی لوله برخورد نمایند. دیگر مکانیسم، سایش ناشی از برخورد اتفاقی است. در این نوع سایش با وجود آنکه مؤلفهی سرعت متوسطی که سیال را به سمت دیوارهی لوله هدایت کند وجود ندارد، با این وجود تلاطمهای موجود در جریان می‌توانند ذراتی با مومنتوم در جهت شعاعی ایجاد نموده و آنها را به سمت دیوارهی لوله حرکت دهد. اما تلاطمهای آشفته یک فرآیند اتفاقی بوده و از اینرو با نام برخورد اتفاقی نامیده می‌شود. این دو نوع مکانیسم می‌توانند انواع مختلفی از سایش را سبب شوند [24].

2862580302895eddy
00eddy
185229538163500شکل(2-3). سایش در اثر برخورد مستقیم9804401574800025031702794000
شکل(2-4). سایش در اثر برخورد اتفاقیدو مکانیسم فوق میتوانند انواع مختلفی از سایش را در ترکیبات مختلف سیال، سرعت، اشکال مختلف لوله کشی ایجاد نمایند.
بدون توجه به نوع مکانیسم سایش، آسیب پذیرترین بخشهای یک سیستم تولیدی می‌تواند شامل مواردی باشد که در آنها:
1- جهت جریان به صورت ناگهانی تغییر می‌نماید.
2- سرعتهای بالای جریان که خود در نتیجه دبیهای تولید بالای سیال است.
3- سرعتهای بالای جریان، که در نتیجهی محدودیت سطح مقطع حرکت سیال ایجاد می‌شود.
اجزاء و سیستمهای لوله کشی بالادستی جداکننده‌های اولیه، حاوی مخلوطهای چندفازی گاز، مایع و ذرات جامد بوده و در نتیجه احتمال سایش ناشی از برخورد ذرات جامد، خوردگی سایشی و سایش قطره‌ای ( ناشی از برخورد قطرات مایع ) زیادتر است. همچنین آسیب پذیری بخشهای خاص در برابر سایش، به میزان زیادی به طراحی آنها و شرایط عملکرد آنها بستگی دارد. با این وجود، لیست زیر اجزائی را نشان میدهد که بیشترین آسیب پذیری را در برابر سایش دارند [2]:
چوکها[18]
انقباض ناگهانی
شیرهای نیمه بسته، شیرهای یک طرفه و شیرهایی که قطر آنها با قطر لوله برابر نیست[19]
زانوییها[20] با شعاع استاندارد
کاهندهها[21]
زانوییها با شعاع بلند، میترها[22]
سهراهیهای مسدود
لوله‌های صاف
2-4- انواع سایشمکانیسمهای بالقوه‌ای که میتوانند باعث آسیبهای سایشی شوند عبارتند از[6]:
1- سایش ناشی از دانههای شن و ماسه[23]
2- سایش ناشی از قطرات مایع[24]
3- خوردگی سایشی[25]
4- پدیدهی کاویتاسیون[26]
2-4-1- سایش ناشی از دانه‌های شن و ماسه سایش ناشی از دانه‌های شن و ماسه معمولترین و مهمترین منبع مشکلات سایشی در سیستمهای هیدروکربنی است، زیرا وجود مقدار جزئی از شن و ماسه همراه با سیال تولیدی می‌تواند سبب سایش و خوردگی سایشی قابل ملاحظه‌ای گردد. حتی در سیال تولیدی عاری از شن و یا در مواقعی که دبی تولید شن بسیار کم و در حدود چند پوند در روز است، صدمات ناشی از سایش میتواند در سرعتهای بالا شدید باشد. سایش ناشی از شن و ماسه می‌تواند سبب ایجاد سایش محلی به مواد محافظت کنندهی خوردگی روی دیوارهی لوله‌ها شده و در نتیجه شتاب دهنده به پدیده خوردگی سایشی شود.
نرخ سایش ناشی از شن و سیال توسط عوامل زیر تعیین می‌شود[3]:
دبی تولید شن و نحوهی انتقال آن
سرعت، گرانروی و چگالی سیال
اندازه، شکل و سختی ذرات شن
ترکیب و ماهیت اجزای سیال
پیکربندی مسیر جریان نظیر لولههای مستقیم، زانویی یا سهراهی
میزان سختی و مقاومت سطح مورد هدف
زاویهی برخورد ذرات شن
دما و فشار
برای درک بهتر اثرات بالا به توضیح آنها میپردازیم.
2-4-1-1- اثر دبی تولید شن و روش انتقال آنطبیعت شن و روش تولید و انتقال آن، یکی از عوامل مهم و تعیین کنندهی نرخ خوردگی و سایش در یک سیستم تولیدی است. نرخ تولید شن در یک چاه توسط ترکیب پیچیده‌ای از عوامل زمین‌شناسی تعیین می‌شود و می‌توان آنرا توسط روشهای مختلفی تخمین زد. بطور طبیعی چاههای جدید هنگام تمیزسازی، مقدار زیادی شن تولید میکنند. سپس تولید شن در یک نرخ نسبتأ پایین، قبل از افزایش مجدد تولید شن بدلیل افزایش عمر مخزن، تثبیت میشود. نرخ تولید شن پایدار نبوده و اگر چاه بیش از 5 الی10 پوند در روز تولید شن داشته باشد، اغلب بعنوان چاه بدون تولید شن شناخته می‌شود. با این وجود، این امر احتمال حذف سایشی را که قرار است اتفاق بیافتد، نمی‌گیرد.
مکانیسم انتقال شن فاکتور مهمی در کنترل سایش شن است. سیستمهای گازی معمولأ دارای سرعتهای بالا هستند (بیشتر از 10 متر بر ثانیه) و همین امر سبب می‌شود سایش در سیستمهای گازی نسبت به سیستمهای نفتی بیشتر باشد. با این وجود در سیستمهای گاز مرطوب، ذرات شن می‌توانند توسط فاز مایع به تله افتاده و توسط همین فاز انتقال داده شوند. در حالت خاص که جریان بصورت لخته‌ای[27] درآید بصورت دوره‌ای می‌تواند تولید سرعتهای بالاتر نماید که بطور قابل ملاحظه‌ای نرخ سایش را افزایش می‌دهد. اگر جریان ناپایدار بوده یا شرایط عملیاتی تغییر نماید ممکن است ذرات شن در هنگام سرعتهای پایین جریان تجمع یافته و در هنگام سرعتهای بالای جریان توسط سیال شسته شده و خارج شوند. مکانیسم جریان ممکن است بگونه‌ای عمل کند که غلظت شن زیاد شده و در بعضی بخشهای خاص سیستم بهره‌برداری سبب افزایش نرخ سایش شود.
با توجه به اطلاعات عملیاتی بدست آمده از واحدهای بهرهبرداری در مکانهای مختلف و همچنین نتایج آزمایشگاهی که توسط محققین گزارش شده است، مشخص شده که با افزایش میزان شن تولیدی (افزایش غلظت شن[28])، در ابتدا مقدار سایش افزایش مییابد. اما اگر مقدار شن از حدی تجاوز کند که دیگر سیال اصلی قادر به حمل آن نباشد، سایش کاهش خواهد یافت. که در این حالت تجمعی از شن را در سیستم خواهیم داشت. البته باید اشاره کرد که چنین وضعیتی بیشتر در آزمایشگاه اتفاق میافتد، و در حالت طبیعی در واحد بهرهبرداری به ندرت میتوان مشاهده کرد.
2-4-1-2- سرعت[29]، گرانروی[30] و چگالی[31] سیال
میزان سایش ناشی از شن وابستگی بالایی به سرعت سیال داشته و با سرعت برخورد ذره متناسب است. هر چه سرعت زیادتر باشد، نرخ سایش نیز بیشتر خواهد بود. هنگامی که سرعت سیال به اندازهی کافی زیاد باشد ذرات را حمل نموده و سایش با ذرات شن عامل اصلی خواهد بود. زمانیکه سرعت سیال به اندازه کافی بالا باشد، سرعت برخورد شن به سرعت سیال نزدیک بوده و سایش یک امر محتمل است. از اینرو زمانیکه سرعت سیال در بیشترین مقدار خود قرار دارد احتمالأ سایش به بیشترین مقدار خود می‌رسد. افزایشهای جزئی در سرعت سیال در صورتیکه شرایط مهیا باشد، می‌تواند سبب افزایش بیشتر نرخ سایش شود. ممکن است در سرعتهای خیلی زیاد (نزدیک به سرعت صوت)، افزایش سرعت تأثیری در میزان سایش نداشته باشد، زیرا در این حالت مقاومت سطح هدف تقریبأ از بین میرود.
همانطور که قبلأ گفته شد، در سرعتهای کم نیز سایش وجود دارد ولی مقدار آن به قدری کم است که میتوان از آن صرف نظر کرد. حداکثر سرعتی را که میتوان در یک سیستم به کار برد و میزان سایش مقدار مجاز است، سرعت آستانه[32] یا سرعت بحرانی[33] میگویند.
این سرعت، توسط شرکتهای مختلف و تحت عنوان استانداردهای طراحی، برای سیستمهای مختلف ارائه شده است، که در قسمتهای بعدی به آن اشاره خواهد شد.
در سیالات گرانرو، ذرات جامد بجای برخورد با جدارهی اتصالات تمایل دارند در مسیر حرکت سیال حرکت نمایند. در حالیکه در سیالات با گرانروی و جرم ویژهی کم، ذرات جامد تمایل دارند در مسیرهای مستقیم حرکت نمایند و در هنگام تغییر جهت مسیر جریان، به دیواره‌ها برخورد نمایند. از اینرو در جریانات گازی بدلیل گرانروی و جرم مخصوص کمتر و سرعتهای بالاتر، احتمال سایش توسط ذرات شن بیشتر است. و یا به عبارت دیگر: در سیالهایی با دانسیتهی بالا و ویسکوز، شن به همراه خط جریان حمل شده و برخورد کمتری با دیوارهها داشته و در نتیجه سایش کمی خواهیم داشت. اما در جریانهای با دانسیته و ویسکوزیتهی پایین، دانههای شن خطوط جریان را قطع میکنند و در زانوییها به صورت مستقیم حرکت کرده و برخوردهای شدیدی را ایجاد میکنند و سایش زیادی ایجاد میکنند. در جدول (2-1) سرعتهای مجاز برای انواع شیرها در غلظتهای مختلف شن توسط آقای راسل[34] [16] آورده شده است. ملاحظه میشود که افزایش غلظت موجب کم شدن سرعت بحرانی یا به عبارت دیگر افزایش میزان سایش شده است [16].
جدول(2-1). تأثیر غلظت شن بر روی سرعت بحرانی برای شیرهای مختلف[16]
Water Russell Russell Russell
53 micron 53 micron 53 micron
Sand Concentration 3.5 Valve
Casing ID 3.5 Valve
Valve ID 3.5 Valve
ID Flow Port
(ppm) V (ft/s) V (m/s) V (ft/s) V (m/s) V (ft/s) V (m/s)
2.9 95 29 73 22 66 64 20
5.7 78 24 60 18 52 53 16
8.6 69 21 53 16 46 47 14
11 64 19 49 15 43 43 13
14 60 18 46 14 39 41 12
17 57 17 44 13 39 39 12
20 54 17 42 13 36 37 11
23 52 16 40 12 36 36 11
26 51 15 39 12 33 34 10
29 49 15 38 11 33 333333 10
2-4-1-3- شکل، اندازه و سختی ذرات شناندازهی دانههای شن در جریان تولید هیدروکربنها به خواص زمین شناسی منطقه، اندازهی غربالهای شن درون چاهی و شکست ذرات در هنگام انتقال از مخزن تا سطح بستگی دارد. بدون محدودیت اندازه دانه‌های شن نظیر غربالهای شنی ته چاهی، اندازهی ذرات عمومأ بین 20 تا 500 میکرون[35] متغیر است. چگالی دانه‌های شن تا حدود 2600 کیلوگرم بر مترمکعب مورد قبول است.
اندازهی ذرات شن در ابتدا با دانستن اینکه چه تعداد از ذرات به سطح برخورد می‌کنند سایش را تحت تأثیر قرار می‌دهند. ذرات بسیار ریز (تقریبأ در حدود 10 میکرون) توسط سیال انتقال یافته و به ندرت به دیوارههای لوله برخورد میکنند. ذرات بزرگتر تمایل دارند در مسیرهای مستقیم حرکت نموده و به سطوح دیواره برخورد نمایند. ذرات بسیار بزرگ ( تقریبأ در حدود یک میلیمتر ) تمایل به حرکت آرام یا تهنشینی دارند و از اینرو صدمهی زیادی وارد نمیکنند. پس به طور کلی با افزایش سایز ذرات شن، و یا به عبارتی افزایش اندازه حرکت[36] ذرات، میزان صدمات افزایش مییابد. اما این افزایش به صورت مطلق نیست. در آزمایشهایی که برای جریان گاز حاوی ذرات شن انجام شده است، مشخص شده در سایزهای بزرگتر از 300 میکرون، سایش کمتر شده است. آقایان فینی[37] [23] و همکارانش نشان دادند که شدت سایش با افزایش اندازهی ذرات افزایش مییابد. در اندازههای بیشتر از (150 – 300) میکرون نرخ سایش مستقل از اندازهی ذرات خواهد بود. برای جریان مایع و شن اطلاعات جامعی در دسترس نیست. اما اگر سیال قادر به حمل ذرات باشد، و بتواند ذرات بزرگتر را نیز با خود حمل کند، سایش پیوسته زیادتر خواهد شد [ 24 و 8 و7].
معمولأ ذرات سختتر نسبت به ذرات نرمتر سبب سایش بیشتری می‌شوند و ذرات تیز نیز نسبت به ذرات دارای لبههای گرد شده آسیب بیشتری وارد می‌کنند. شن های آهکی و ساحلی به مراتب نرمتر از سایر شنها هستند. با اینحال به روشنی معلوم نیست که آیا تغییر سختی و تیزی سنگ باعث ایجاد اختلاف قابل ملاحظهای بین نرخ سایش در سیستمهای بهره‌برداری همراه با چاهها یا میادین مختلف میشود یا خیر؟ [9]
شکل زیر تأثیر اندازهی ذرات و دانسیته و ویسکوزیتهی سیال را بر نحوهی حرکت اجزای جریان در یک زانویی نشان میدهد.
28511519621500866140669290(الف)
00(الف)
2566670690880(ب)
00(ب)
4296410691515(ج)
00(ج)
152401480820Small – light particles
size = 10 µm , liquid solvent
00Small – light particles
size = 10 µm , liquid solvent
16821151480820Medium particles
Size = 200 µm , liquid solvent
00Medium particles
Size = 200 µm , liquid solvent
34156651471295Large – heavy particles
size > 200 µm , gas solvent
00Large – heavy particles
size > 200 µm , gas solvent

شکل (2- 5). تأثیر اندازهی ذرات و دانسیته و ویسکوزیتهی سیال بر رژیم جریان در داخل زانویی[24]
2-4-1-4- ترکیب و ماهیت اجزای سیالیک جریان تکفازی[38] در مقایسه با یک جریان چندفازی[39] در یک سرعت برابر، سایش بسیار کمتری دارد. طبق استاندارد ملی شرکت نفت ایران[40] سرعت مجاز برای سیالات مایع درون خطوط لوله 4 متر بر ثانیه و برای گازها 20 متر بر ثانیه است. در صورتیکه جریان مایع و گاز حاوی مقدار کمی از ذرات شن باشند (چندفازی باشند)، سرعت مجاز جریان مایع به یک متر بر ثانیه و جریان گاز به 5 متر بر ثانیه تقلیل مییابد. در جریانهای چندفازی میزان سایش به جزء غالب سیال بستگی بیشتری دارد، و حتی ماهیت سیال میتواند مکانیسم سایش را تغییر دهد. هر سیالی از یک سری مواد تشکیل شده است. بعضأ این مواد خورنده هستند و باعث خوردگی سیستم میشوند [10 و3].
2-4-1-5- پیکربندی مسیر جریان نظیر لوله های مستقیم، زانویی یا سهراهیدر زانوییها و سهراهیها مکانیسم سایش برخورد مستقیم ذرات با دیواره است در صورتیکه در لولههای صاف مکانیسم برخورد اتفاقیست. به طور حتم میزان سایش در زانوییها و سهراهیها بیشتر از لولههای صاف است. بیشترین میزان سایش در تجهیزات با تغییر ناگهانی جهت جریان اتفاق میافتد و زانویی در میان تجهیزات تولید و خطوط انتقال هیدروکربن بیشترین تغییر جهت جریان را دارا است. شکل(2-5) مسیر حرکت ذرات را در یک زانویی نشان می‌دهد. مسیرهای حرکت سیال به وزن و میزان اصطکاک[41] اعمال شده بر روی ذرات توسط سیال در هنگام حرکت از درون زانویی بستگی دارد. شکل(2-5- الف) مسیرهای حرکت مشاهده شده برای ذرات ریز ( در حدود 10 میکرون) در یک سیال مایع را نشان می‌دهد. شکل(2-5- ب) بیانگر ذرات شن دارای ابعاد متوسط ( در حدود 200 میکرون) در جریان مایع و شکل (2-5- ج) نشان دهنده ذرات شن با ابعاد بزرگ در جریانهای گازی است. ذرات جامد کوچک نیازمند نیروی دراگ کمی جهت تغییر جهت می‌باشند. از اینرو این ذرات مسیر طی شده توسط سیال را می‌پیمایند. این شکل همچنین بیانگر حالتی است که ذرات در یک سیال بسیارگرانرو و بسیار چگال حرکت می‌کنند. شکل(2-5-ج) نشان دهندهی مسیر حرکت ذرات سنگین و بزرگ در یک زانویی است. ذرات سنگین و بزرگ دارای مومنتوم نسبتأ بالایی بوده و به سختی توسط جریان سیال منحرف میشوند و از اینرو تمایل دارند در مسیرهای مستقیم حرکت نموده و در حین حرکت، دیواره‌های زانویی را مورد اصابت قرار داده و کمانه نموده و مجددأ به دیواره‌های دیگر برخورد نمایند. همچنین شکل (2-5-ج) نشان دهنده حالتی است که ذرات جامد در سیال با گرانروی پایین و جرم ویژهی پایین جریان دارند.
در لولههای مستقیم سایش زیادی مشاهده نمیشود و دلیل آن این است که تغییر جهت برای سیال در طول لوله اتفاق نمیافتد. رژیمهای جریان در لولههای مستقیم به سرعت سیال و مقدار شن بستگی دارد. مثل تمام موارد سایش افزایش سرعت موجب افزایش نرخ سایش در لوله خواهد شد. اما در یک سرعت ثابت با افزایش مقدار شن، میزان سایش کاهش مییابد. چون سیال با سرعت مشخص در درصدهای شن بالا توانایی حمل ذرات شن را دارا نیست و
نیروی وزن ذرات موجب حرکت شن در کف لوله میشود.
مشاهده شده است سهراهیهای مسدود، عمومأ در معرض سایش کمتری نسبت به زانوییهای استاندارد با شعاع 5/1 برابر قطر زانویی، قرار دارند و از اینرو بعضی از اپراتورها در مواردی که احتمال وجود مشکلات ناشی از سایش را پیشبینی کنند، زانوییها را با سهراهیهای سنگین وزن جایگزین مینمایند.
اگر یک سهراهی مسدود بصورت صحیح قرار داده شود و شرایط جریان اجازه دهد، میتوان یک مجرابند شنی[42] در شاخهی مردهی سهراهی ایجاد نمود. ذرات جامد عبور کننده از سهراهی تمایل دارند بجای دیوارهها به این مجرابند برخورد نمایند و در نتیجه میزان سایش کاهش مییابد. با اینحال، این مجرابند همچنین ممکن است از رسیدن مواد ضدخوردگی به دیوارهها جلوگیری نموده و سبب ایجاد مشکلات ناشی از خوردگی شود. در بعضی موارد ذرات جامد تغلیظ شده و در شاخهی مردهی سهراهی به چرخش در آمده، باعث ساییدن سطح داخلی و ایجاد سایش قابل ملاحظهای میگردد. یک نوع خاص از سهراهی (سهراهی هدف) نیز بکار گرفته میشود که در آن شاخهی مرده، شامل یک لایه از یک فلز نرم نظیر آلومینیوم بوده تا انرژی ضربات ذرات جامد را جذب کند [20].

شکل (2-6). شماتیکی از یک سه راهی مسدود[20]
2-4-1-6- میزان سختی و مقاومت سطح مورد هدفوقتی ذرات شن به سطح یک فلز برخورد میکنند باعث از بین رفتن سطح فلز میشوند. نرخ این سایش به عوامل مختلفی مثل نرمی و سختی فلز بستگی دارد. مکانیسم سایش برای فلزات و یا مواد نرم با مواد سخت تفاوت دارد. مواد نرم در ابتدا به آرامی خراشیده میشوند و این خراشیدگی در مدت زمان زیاد به ساییدگی منجر میشود. اما وقتی ذرات شن به مواد سفت و شکننده برخورد میکنند، در لحظهی برخورد مولکولهای سطح را جدا کرده و با خود میبرند. برای فلزاتی که معمولأ در تجهیزات نفت و گاز استفاده میشوند (مانند نیکل[43]، آهن[44] و فولاد کربن دار[45]، فولاد ضد زنگ و …) سختی فلز اثر کمی بر روی نرخ سایش دارد. بدیهی است که در شرایط فوق با افزایش میزان سختی فلز شدت سایش کاهش مییابد. در جدول زیر سرعتهای بحرانی سیال برای فلزات هدف مختلف آورده شده است که بیانگر این مطلب میباشد [19].
جدول (2-2). تأثیر جنس فلز بر روی سرعت سایش[19]
Critical Velocity Ft/s Flow Stress (kpsi) Hardness Material
50 11 23 Brinell Aluminum 1100
100 47 100 Brinell 99.67 % Ni
125 128 270 Vickers 316 ss
125 180 280 Vickers Ti 6A1- 4v
315 346 730 Vickers Cast Iron
2-4-1-7- زاویهی برخورد ذرات شن
مکانیسم فرایند سایش برای مواد ترد[46] و نرم[47] در اثر برخورد ذرهی جامد تحت زاویهی کمتر از 90 درجه در شکل (2-7) نشان داده شده است. برای مواد و فلزات نرم سایش در اثر فرایند حرکت ذرات بر روی سطح و جداره لوله انجام می‌گیرد و با افزایش زاویه تا 90 درجه میزان سایش کاهش مییابد. در مقابل برای مواد ترد با افزایش زاویهی برخورد میزان شدت سایش افزایش یافته به نحوی که ذرات ریز با سرعتهای پایین نیز باعث سایش در سطح ماده میشوند. نتایج نشان داده است مواد نرم در زاویههای پایین و مواد ترد در زاویههای نزدیک به قائم حداکثر میزان سایش را دارند[3].
61531550800Ductile Material
00Ductile Material
710565355600Cutting wear
00Cutting wear
312991560325Brittle Material
00Brittle Material
2691765368935Cracking & Chipping wear
00Cracking & Chipping wear

977265182245Angle of impact
00Angle of impact

شکل (2-7). تأثیر زاویة برخورد ذرات برای مواد نرم و ترد [3]
2-4-1-8- دما و فشاربیشتر آزمایشات انجام شده در فشارهای معمولی (اتمسفر) و دماهای محیط صورت گرفته است و اطلاعات زیادی در فشارهای بالاتر موجود نیست. در واقع پارامترهای دما و فشار بیشتر بر روی گرانروی و چگالی جریان نقش دارند تا اینکه خود تأثیر مستقیمی داشته باشند. در بعضی از منابع نشان داده شده که با افزایش دما، سایش زیاد میشود. اما در برخی دیگر نتیجهای معکوس درج شده است.
2-4-2- سایش ناشی از قطره های مایعاین نوع سایش در سیستمهای گاز مرطوب[48] یا جریان چندفازی که در آن قطره‌های مایع شکل می‌گیرد اتفاق می‌افتد. نرخ سایش به عواملی نظیر اندازهی قطره، سرعت برخورد، تعداد برخوردها و گرانروی و جرم ویژهی گاز و مایع بستگی دارد.
نتایج آزمایشگاهی نشان می‌دهد تحت گسترهی وسیعی از شرایط، از بین رفتن مواد توسط سایش قطره‌ای با زمان متغیر است. در ابتدا قطرات برخورد کننده بدلیل وجود لایه‌های محافظ بر روی سطح لوله باعث خوردگی نمی‌شوند. با این وجود بعد از گذشت یک دوره زمانی سایش سریع اتفاق افتاده و کاهش وزن بسیار قابل ملاحظه شده و بصورت خطی با زمان افزایش می‌یابد. هیدرودینامیک مخلوطهای چندفازی درون لوله نیز درجهی ترشوندگی دیواره‌های لوله و توزیع مواد ضد خوردگی تزریق شده به درون سیستم لوله کشی را تحت تأثیر قرار می‌دهد.
46062902604135(2-1)
00(2-1)
وقتی یک مایع در داخل جریان گاز قرار میگیرد (حالت دو فازی گاز و مایع)، به صورت قطرههای معلق در خواهد آمد. این قطرات توسط گاز حمل شده و با دیوارهها برخورد کرده و منجر به سایش میشوند. با توجه به دبی تولید مایع، نرخ سایش تغییر خواهد کرد. در ابتدا با افزایش مقدار مایع، سایش زیادتر میشود، اما تا جایی ادامه پیدا میکند که فاز گازی قادر به حمل قطرات مایع باشد. اگر مقدار مایع از حد خود تجاوز کند به صورت فیلم نازکی در میآید که دیگر توسط گاز حمل نخواهد شد، در این حالت سایش به حداقل مقدار ممکن میرسد. برای سایش با قطرات مایع نیز سرعت آستانه تعریف میشود که طبق استاندارد مهندسین نفت آمریکا[49] از رابطه زیر محاسبه میشود [11].

در این رابطه سرعت سایش بر حسب فوت بر ثانیه، جرم ویژه مخلوط بر حسب پوند بر فوت مکعب و مقدار ثابتی است که مقدار آن از جداول بدست می‌آید. رابطهی بالا یک رابطهی کلی است که برای مکانیسمهای دیگر سایش نیز کاربرد دارد. شرکتهایی که در این زمینه فعال هستند یک سری استانداردها را برای محدودة مقدار بدست آوردهاند. چند استاندارد معروف عبارتند از:
American Petroleum Institute, Recommended Practice (API – RP – 14E)
Det Norsok Veritas, (DNV – RP – 0501)
M.M. Salama, E.S. Venkatesh, (S &V)
(IPS – E – PI – 140)
جدول زیر مقادیر سرعتهای سایش مختلف ارائه شده توسط محققین مختلف را نشان می‌دهد.
جدول (2-3 ). سرعت سایش برای سیستم های گاز میعانی با نسبت های مختلف میعانات به گاز [24]

بر اساس استاندارد API جهت جلوگیری از زدوده شدن فیلم محافظ خوردگی ایجاد شده بر روی دیوارهی لوله‌ها، حداکثر سرعت جریان گاز نباید از 15 متر بر ثانیه تجاوز کند [11]. با این وجود به نظر می‌رسد این استاندارد خیلی محافظه کارانه باشد. بر اساس پیشنهاد ارائه شده در DNV-RP-O501 احتمال ایجاد سایش قطره‌ای و سایش ناشی از برخورد قطرات در قطعات فولادی در سرعت های کمتر از 70 تا 80 متر بر ثانیه پایین بوده و این فرض بیشتر به واقعیت نزدیک است [21]، اگرچه مشخص نیست این مقادیر از کجا آورده شده‌اند. شینوگایا[50] [11] و همکاران دادههای تجربی سرعت های آستانه به میزان 110، 100 و 80 متر بر ثانیه را برای برخورد قطرات آب به سطوح فولاد ضد زنگ، آهن خالص و آلومینیوم را ارائه نمودهاند [11].
برای آب در شرایط استاندارد این معادله با ثابت برابر با 300، مقدار سرعت آستانه را به میزان 6/11 متر بر ثانیه یا 38 فوت بر ثانیه میدهد که مقداری محافظهکارانه است. سالاما[51] و ونکاتش[52] [9] سرعتهای آستانهی سایش ناشی از برخورد قطرات مایع را برای فولادهای مختلف بدست آوردهاند. این مقادیر از 26 تا 118 متر بر ثانیه متغیرند. آرنولد[53] [25] بیان نموده است که در سرعت های سایش کمتر از 100 فوت بر ثانیه، سایش قطرهای اتفاق نمیافتد.
اما طبق استاندارد IPS-E-PI-140 سرعت مجاز گاز باید در محدوده 5 تا 10 متر بر ثانیه و برای جریان مایع در محدوده 1 تا 2 متر بر ثانیه باشد. حداکثر سرعت گاز در لوله نباید از 20 و مایع نباید از 4 متر بر ثانیه بیشتر باشد. در صورت وجود ذرات جامد در جریان گاز و مایع، سرعت گاز باید کمتر از 5 متر بر ثانیه و سرعت مایع کمتر از 1 متر بر ثانیه باشد. بر اساس تجربه در اغلب خطوط لوله، سرعت پیشنهادی گاز بین 40 تا 50 درصد سرعت سایش میباشد [10].
2-4-3- خوردگی سایشیخوردگی سایشی عبارت است از افزایش سرعت خوردگی و یا از بین رفتن فلز در اثر حرکت نسبی بین یک سیال خورنده و سطح فلز. معمولأ این حرکت بسیار سریع بوده و اثرات سایش مکانیکی وجود دارد. ظاهر خوردگی سایشی، شیاردار و موجیشکل و یا به صورت سوراخهای کروی و ناهمواره بوده که معمولأ در جهت خاصی قرار گرفتهاند. اکثر تخریبهای ناشی از این نوع خوردگی در زمانهای کوتاه رخ میدهد. اکثر فلزات و آلیاژها مستعد به این خوردگی بوده و مقاومت به آن، بستگی به نوع پوستهی سطحی دارد. مانند؛ آلومینیوم[54]، سرب[55] و فولاد ضدزنگ. در بسیاری از آنها مقاومت در مقابل خوردگی بستگی به نوع لایههای سطحی دارد. هر چه این لایهها مقاومتر، چسبندهتر، همگنتر و متراکم‌تر باشند، مقاومت فلز به خوردگی سایشی بیشتر خواهد بود. اگر این پوستههای محافظ سطحی صدمه ببینند یا ساییده شوند، خوردگی سایشی اتفاق میافتد و در نتیجه فلز یا آلیاژ با سرعت بالایی خورده می‌شود. نکتهی قابل توجه اینکه فلزاتی که سختی پایینی دارند و به راحتی آسیب میبینند و یا به روشهای مکانیکی، زود ساییده میشوند مانند مس و سرب، بسیار مستعد خوردگی سایشی هستند [24]. محلولهای بسیاری مانند گازها، محلولهای آبی و فلزات مذاب میتوانند خوردگی سایشی ایجاد کنند و تمامی تجهیزاتی که در تماس با مایع متحرک قرار دارند، در معرض خوردگی سایشی هستند. شماتیکی از خوردگی سایشی در شکل زیر دیده میشود [14].

شکل (2-8). مکانیسم خوردگی سایشی(به ترتیب ازa تا d) [14]
آسیب ناشی از سایش و خوردگی را معمولأ میتوان با بازرسی لولهی آسیب دیده و بررسی شرایط عملیاتی، از همدیگر تشخیص داد. سایش با کنده شدن یا خراش خوردن سطح فلز نمایان میشود، اما خوردگی معمولأ به صورت پخش شده است و با زنگ زدگی سطح فلز قابل تشخیص است. خوردگی سایشی ترکیبی از سایش و خوردگی در یک مکان مشخص بوده و خوردگی سایشی میتواند مورد توجه قرار نگیرد چون نشانی از خوردگی یا سایش در آن دیده نمیشود.
در جریان سیال خورنده بدون وجود ذرات جامد در آن، زمانی که لولههای جدید مورد استفاده قرار میگیرند، نرخ خوردگی بالا بوده و بعد از زمان کوتاهی به دلیل ایجاد یک لایهی خورده شده که به عنوان لایهی مقاوم عمل میکند، کاهش مییابد. اما در زمانی که یک جریان سایش دهنده قوی داشته باشیم این لایهی خورده شده را کنار زده و سیال خورنده را با لایههای داخلی فلز تماس میدهد. این سایش و خوردگی به صورت پشت سرهم و دورهای اتفاق میافتد که نرخ تخریب لولهها بیشتر از سایش یا خوردگی خواهد بود.
مکانیسمهای خوردگی سایشی بسیار پیجیدهاند. از اینرو پیشبینی نرخهای نفوذ خوردگی سایشی برای وضعیت خاص بسیار دشوار است. میتوان با کنترل شرایط عملیاتی و جلوگیری از رخ دادن سایش یا خوردگی، از خورگی سایشی جلوگیری نمود.
محصولات جامد حاصل از خوردگی از سطح فلز به طریق مکانیکی کنده می‌شوند. گاهی اوقات حرکت باعث تقلیل سرعت خوردگی موضعی می‌گردد. مخصوصأ موقعی که تحت شرایط ساکن خوردگی موضعی اتفاق افتاده باشد. چرا که حرکت باعث از بین رفتن رسوبات روی سطح فلز شده و نواحی مرده از بین میروند و خوردگی موضعی متوقف می‌شود. لیکن این خوردگی سایشی نیست، زیرا سرعت خوردگی افزایش نیافته است. تعداد زیادی از محیط‌های خورنده می‌توانند باعث ایجاد خوردگی سایشی شوند. جامدات معلق در مایعات مخصوصأ از نقطه نظر خوردگی سایشی خیلی مخرب می‌باشند. کلیه تجهیزاتی که در تماس با مایعات متحرک می‌باشند در معرض خوردگی سایشی قرار دارند.
2-4-4- پدیدهی کاویتاسیونزمانیکه مایع از یک ناحیه محدود شونده کم فشار عبور می‌کند، پدیدهی کاویتاسیون ایجاد می‌شود. اگر فشار، از فشار بخار مایع کمتر شود حبابهای گاز شکل می‌گیرند. سپس این حبابها ترکیده و امواج شوک ایجاد می‌شوند. این امواج شوک می‌توانند سبب آسیب رساندن به سیستم لوله شود. پدیدهی کاویتاسیون در سیستمهای تولید نفت و گاز به ندرت اتفاق می‌افتد، زیرا فشارهای عملیاتی معمول عمومأ بالاتر از فشارهای بخار مایع می‌باشد. کاویتاسیون را گاهی می‌توان در چوکها، شیرهای کنترل و پره‌های پمپ مشاهده نمود اما احتمال وقوع آن در جاهای دیگر پایین است [24].
2-5- رابطهی تئوری برای اندازهگیری سایش
تا به حال مطالعات تئوری و آزمایشگاهی متعددی بر روی مسئلهی سایش توسط محققین مختلف صورت گرفته است. در فصل بعد به طور مفصل به کارهای انجام شده پرداخته میشود. اما ریشه و اساس مکانیسم سایش را می توان با رابطهی تئوری زیر که توسط آقایان فینی[56][23] و بورگین[57] [5] ارائه شده است، بیان کرد. مکانیسم سایش برای فلزات نرم و هادی به این صورت بیان می شود:
مقدار کار و انرژی مورد نیاز برای برداشتن و یا کنده شدن مواد از سطح یک فلز برابر است با مقدار انرژی جنبشی منتقل شده به فلز توسط ذرات برخورد کننده.
(2-2)
: نرخ حجمی کاهش ضخامت دیواره فلز بر حسب
: تنش سیال بر روی فلز بر حسب
: سرعت برخورد ذرات که تقریبأ با سرعت جریان برابر میباشد.
: دبی جرمی ذرات برخورد کننده
: تابع زاویهی برخورد ذرات
البته رابطهی بالا رابطهی دقیق و کاملی نیست، زیرا تأثیر پارامترهایی نظیر سختی فلز، سختی ذرات جامد، دانسیته و ویسکوزیتهی سیال، سایز ذرات و دیگر پارامترهای دخیل در آن لحاظ نشده است. در واقع این رابطه سر منشأ کارها و تحقیقات سایر محققین قرار گرفته است.
2-5-1- گزارش نرخ سایشدر رابطة (2-2) نرخ سایش بر حسب ضخامت ساییده شده در واحد زمان، یا همان سرعت از بین رفتن فلز بیان شده است. چون نرخ سایش در سرعتهای متوسط، معمولأ پایین است، برای گزارش آن از واحد میلیمتر در سال استفاده میشود.
در تحقیقات صورت گرفته نرخ سایش به شکلهای متفاوتی بیان شده است. در ادامه به برخی از آنها اشاره میشود.
جرم (وزن) مادهی سایش یافته به ازای واحد جرم ذرات جامد
کاهش حجم مادهی سایش یافته به ازای تعداد برخوردهای ذرات ساینده
ماکزیمم عمق حفرهی ایجاد شده روی سطح ماده توسط ذرات ساینده در طول یک سال
حجم کاهش یافتهی ماده به ازای واحد جرم ذرات ساینده
نرخ کاهش ضخامت دیواره به ازای واحد جرم ذرات ساینده
حجم کاهش یافتهی فلز یا ماده به ازای واحد حجم ذرات ساینده
کاهش وزن (جرم) مادهی سایش یافته در طول یکسال
در انجام این پروژه برای گزارش نرخ سایش از واحدهای کاهش وزن (جرم) مادهی سایش یافته در طول یکسال و ضخامت کاهش یافتهی دیواره در طول یکسال استفاده شده که در فصول بعدی به طور مفصل به آن پرداخته خواهد شد.
2-6- ارزیابی و محاسبهی نرخ سایشهمانطور که قبلأ گفته شد، تولید شن یکی از مهمترین چالشها در صنایع نفت و گاز به شمار میرود. اولین مرحله جهت کنترل شن تولید شده، به دست آوردن نرخ تولید آن میباشد. نرخ تولید شن را با ابزارهای مختلفی میتوان اندازه گرفت. اکثر روشهای اندازهگیری نرخ تولید شن، بر مبنای اندازهگیری سایش ایجاد شده توسط برخورد ذرات جامد و یا اندازهگیری سیگنالهای فراصوت[58] ایجاد شده به سبب برخورد ذرات شن با دیوارهی لوله، طراحی شدهاند. برای اندازهگیری میزان سایش و خوردگی مواد روشهای مختلفی وجود دارد. با توجه به نوع سایش و خوردگی موجود و شدت آن، یکی از روشها انتخاب میشود. در ادامه به برخی از این روشها اشاره میشود [12].
1- اندازهگیری کاهش وزن ناشی از خوردگی و ساییدگی
2- پروبهای مقاومت الکتریکی[59]
3- دستگاههای اندازهگیری اولتراسونیک
4- پروبهای الکتروشیمیایی[60]
5- پرتونگاری با اشعهی ایکس و گاما[61]
2-6-1- اندازهگیری کاهش وزن ناشی از خوردگی و ساییدگییکی از معمولترین روشهای گزارش نرخ سایش، کاهش وزن ناشی از آن است. برای این کار از قطعاتی به نام کوپن[62] استفاده میشود. کوپن صفحهای صاف و براق و صیقل داده شده با ضخامت کم از جنس فلز یا غیر فلز میباشد که برای تست سایش درون جریان قرار میگیرد. کوپن توسط برخی از شرکتها، طبق استانداردهای خاصی ساخته میشود. کوپنهای کاهش وزن از همان جنس یا جنسهای مشابه با مواد بکار رفته در لوله بوده و بصورت دورهای برداشته شده و وزن میشوند. این کوپنها مشاهدهای غیر پیوسته را در اختیار ما قرار میدهند و برای تجهیزات مهندسی زیر دریا نامناسباند، به همین دلیل بیشتر در کارهای آزمایشگاهی از آنها استفاده میشود.کوپنها به طور کلی به سه دستهی کوپنهای دیسکی[63]، کوپنهای تیغهای[64] و کوپنهای پیچی تقسیم بندی میشوند.
شکل (2-9). انواع کوپن ها [12]
نحوهی کوپن گذاری بدین صورت است که: رینگ کوپن مربوط به آزمایش سایش را در ابتدا وزن کرده و درون لوله قرار میدهند، پس از انجام تست آن‌ را بیرون آورده و شستشو میدهند و بعد مجددأ وزن میکنند و از این طریق میزان وزن کاهش یافته یا همان سایش را بررسی میکنند. برای شستن کوپنها از حلالهای مختلفی، مثل آب، الکل، اسید کلریدریک رقیق، اسید نیتریک رقیق و … استفاده میشود. شستشو باید به گونهای باشد تا جرم و آلودگی به طور کامل از سطح کوپن برطرف شود. مدت زمان تست باید مقداری باشد تا سایش ایجاد شده ملموس بوده و قابل اندازهگیری باشد. با مطالعه رینگ کوپن میتوان نوع، طبیعت و سرعت سایش را بدست آورد. رینگ کوپن به گونهای طراحی میشود که اطلاعاتی در مورد شکنندگی هیدروژنی و یا خوردگی نیز به ما بدهد. اغلب کوپنهای رینگ مانند را در ناحیه فرورفتگی ابزار اتصال، قرار میدهند. اندازهی آن به گونهای است که در این ناحیه محکم شده و تحت تنش قرار نمیگیرند. قطر داخلی آن به اندازهی قطر داخلی ابزار اتصال است، تا تولید جریانهای آشفته در جریان ننماید. نحوهی قرار دادن کوپن در جریان در شکل زیر نشان داده شده است.

شکل (2-10). نحوة قرار گرفتن کوپنها در لولههای جریان[12]

Related posts:

– (87)

سینوس اسفنوئید: سینوس های اسفنوئید در ماه چهارم جنینی به صورت اواژیناسیون های از کپسول نازال خلفی به داخل استخوان اسفنوئید ظاهر میشوند. این اتفاق درست بالای ریج کوچک هلالی شکلی است، استخوان به نام کونکای اسفنوئیدال رخ میدهد که از سطح زیرین بادی استخوان اسفنوئید برجسته میشود این کونکاها به سمت جلو رشد میکند […]

– (87)

Please enter banners and links.

با اسکن های state of the art برش هایی به نازکی 5/0 میلی متر بدون افزایش در زمان تصویربرداری قابل انجام است، میدان تصویربرداری انحصاری از همان ناحیه مورد نظر تنظیم میشود که این قابلیت به کاهش آرتیفکت از دندان و مواد فلزی مربوط به آن و مشخص کردن ساختمان های کوچک حفره بینی و سینوس های پارانازال مجاور کمک میکند. window برای برجسته کردن محل های عبور هوا، جزئیات استخوانی و بافت های نرم انتخاب میشوند؛ یک window-width 2000 HU و با یک level 200-HU بیشترین مزیت را داراست. تصاویر ساژیتال برای مقاصد مورفولوژیک قابل ارزیابی است، رسس فرونتال به بهترین وجه در تصاویر ساژیتال قابل رویت است. تصاویر آگزیال در نمایش دادن موقعیت شریان های کاروتید داخلی و اعصاب بینابینی با توجه به حدود استخوانی سینوس های اتموئید خلفی و اسفنوئید و نیز مشخص کردن رسس اسفنواتموئیدال کمک کننده است.(1)
انواعی از علائم و سیستم های نمره دهی یافته های CT یا آندوسکوپی برای طبقه بندی بهتر بیماران به طبقات تشخیصی و درمانی معرفی شده است. سیستم نمره دهی Lund-Mackay معروف ترین روشی است که به وسیله آن بیماری سینوس با CT تشریح میشود.scale=0 معادل با نرمال،scale=1 معادل با افزایش مخاطی خفیف،scale=2 معادل با افزایش ضخامت بیشتر، scale=3 معادل با کدورت %50، scale=4 کدورت بیشتر از %50 ودر نهایت scale=5کدورت %100 میشود.(11)
نگرانی عمده از CT وجود دارد که شامل cataract ناشی از رادیاسیون و دیگری سرطان تیروئید است که به خصوص در بچه ها اهمیت بیشتری دارد؛ از طرفی به خاطر توسعه زیاد و در دسترس بودن CT، تمایل
به چندین بار استفاده از CTبرای یک بیمار در طی پروسه تشخیص، درمان و فالو بیمار، وجود دارد.(3)(تصویر6-1)
تصویر6-1: نمای کرونال از سینوس های پارانازال درCT
تصویر6-1: نمای کرونال از سینوس های پارانازال درCT

MAGNETIC RESONANCE IMAGING(MRI)
به دلیل جدید بودن این تکنیک، هنوز تحت بررسی است. اطلاعات به طور اولیه از توالی های T1,T2 بدست می آیند. هرچند این روش مزایایی همچون نبودن رادیاسیون دارد ولی در %10 از بیماران کلاستروفوبیا یا ترس از محیط های بسته وجود دارد و در صورت وجود اجسام فلزی منع کاربرد دارد. هرچند که استخوان به طور مستقیم در MRIتصویربرداری نمیشود ولی تهاجم به مغز استخوان و اروژن استخوانی واضح به راحتی دیده میشود. دیدن کلسیفیکاسیون در MRI بسیار سخت یا غیر ممکن است. در مورد استفاده از ماده کنتراست در MRI نظرات مختلفی وجود دارد؛ در زیر skull baseافزایش کنتراست(contrast-enhancement) در بیشتر تومورها و بافت های التهابی مثل بافت نرمال رخ میدهد. در موارد گسترش به مغز تجویز کنتراست مفید است همچنین در تمایز دادن ترشحات به دام افتاده و توده solid و در تعیین گسترش اطراف عصب کمک کننده است. کاربرد [29]fat-suppression در موارد درگیری اربیت مفید است ولی در سایر موارد به ترجیح رادیولوژیست وابسته است.(1و2و3)(تصویر7-1)
تصویر7-1:نمای MRI ازضایعه در سینوس ماگزیلاری
تصویر7-1:نمای MRI ازضایعه در سینوس ماگزیلاری

CONE BEAM COMPUTED TOMOGRAPHY
از زمان توسعهCBCT در سال 2000 این مدالیته پیشرفت های بسیاری در تصویربرداری از ناحیه فک و صورت کرده است که به دلیل دوز رادیاسیون کمتر اشعه، دسترسی راحت، قیمت کمتر و زمان بدست آوردن کمتر تصویر نسبت به [30]MDCT یا اسکن چندمقطعی است. اسکنر های cone beam از یک سری دتکتور های دو بعدی دیجیتال تشکیل شده است و بر خلاف CT که دتکتور های خطی دارند، این دتکتور ها به صورت ناحیه است؛ پرتو اشعه X نیز به صورت سه بعدی با کولیماسیون گرد است لذا پرتو حاصله مخروطی شکل است. از آنجایی که اکسپوژر در تمام ناحیه مورد نظر را در بر میگیرد لذا فقط یک اسکن چرخشی گانتری برای کسب اطلاعات کافی جهت بازسازی تصویر لازم است. اصول هندسی پرتو دارای سرعت ذاتی بالا در کسب اطلاعات حجمی است. در حالت کلی سیستم های CBCT رزولوشن وکسلی فراهم میکند که ایزوتروپیک هستند یعنی در سه بعد مساوی هستند.(2) در سال های اخیر تمایل به بررسی راه های هوایی و ارتباط آن با آپنه تنفسیobstructive sleep apnea (OSA) مثل بررسی مورفولوژی فک و صورت بیشتر شده است. این مدالیته در بررسی بافت نرم قابلیت کمی نسبت به MDCT دارد ولی در بررسی مرز بین بافت نرم و فضاهای هوایی دارای special resolusion بالاتری است. این نوع تصویربرداری در ارزیابی آناتومی و پاتولوژی سینوسها و ناحیه گوش و حلق وبینی استفاده میشود. بررسی کلی کرانیال فوسای قدامی، فوسای الفکتوری و استفاده همراه با رادیوگرافیC-arm در حین جراحی رسس فرونتال، استفاده میشود. بررسی بین شیوع سینوزیت در سینوس ماگزیلاری و ارتباط با کونکا بولوزا و انحراف سپتوم بینی و نحوه تکامل سینوس ماگزیلاری مورد مطالعه قرار گرفته است.(12)با توجه به کم بودن تعداد مطالعات در زمینه کاربرد CBCTدر ارزیابی سینوس های پارانازال و نیاز به سیستم تصویربرداری جهت screeningدقیق ضایعات و تعیین خصوصیات رادیوگرافیک کیست ها و تومورها با توجه به محاسنی همچون پیوستگی مقاطع و در نتیجه عدم احتمال miss شدن ضایعات و یا دقت کافی به دلیل حذف سوپرایمپوزیشن و نشان دادن جزئیات استخوانی و واریاسیون های آناتومیک با دقت بالا، لزوم بررسی ضایعات با سیستم تصویربرداریCBCT احساس میشود.
خصوصیات کیست ها و تومورها در تصویربرداری:
شرایط تومورال و شبه تومورال در سینوسهای پارانازال:
تومورهای ناحیه سینونازال منشآ بافتی متفاوت دارند .این تومورها به 2 دسته : 1.اپیتلیال 2.مزانشیمال تقسیم میشوند.
تومورهای اپیلتلیالی غشایی به 4 دسته تقسیم میشوند :1)تومورهای اپیتلیالی با منشآ غشای اشنادرین مثل پاپیلوما.
2)تومور هایی با منشا غدد بزاقی فرعی (Minor salivary gland) که به دو دسته خوش خیم و بدخیم تقسیم میشود.
3)تومورهایی با منشآ نورو آندوکرین مثل سینونازال نورو آندوکرین کارسینوما
4)تومورهایی با منشآ مخاط بویایی مثلneuroblastoma olfactory
تومورهای مزانشیمالی نیز خود به 2 دسته خوش خیم و بد خیم تقسیم میشوند .
تومورهای سینونازال میتوانند خاموش باشند تا به حد مشخصی برسند، به علاوه عفونت ممکن است تظاهرات کلینیکی را محو کند که تشخیص را به تاخیر بیاندازد. عوارض شایع در بیماران با تومورهای ناحیه سینونازال شامل دیپلوپیا، کاهش بینایی، پروپتوز، وجود توده سفت در بینی، آنوسمیا، تودماغی صحبت کردن، اپیستاکسی و توده صورتی میباشد.
تومورهای ناحیه سینونازال میتوانند خاموش باشند تا به حد مشخصی برسند که مثلا بین شروع علایم تا تشخیص کنسر اتموئید حدود 6 ماه زمان لازم است.
درد در مراحل انتهایی میتواند خبر از تهاجم به اعصاب یا توموری در مراحل پیشرفته را بدهد. تومور با علایم لثه یا دندان درد میتواند نشانه تومور آنترال باشد. متاستاز به نودهای لنفاوی اتفاق می افتد. سردرد احتمالا علامتی از احتمال گسترش به قاعده جمجمه و یا داخل کرانیوم میباشد.
مهمترین معضل تشخیص تصویربرداری در نواحی سینونازال تشخیص بافت تومور از ضایعات التهابی اطراف است. از آنجایی که ترشحات بافت های التهابی میزان محتوای آب بالایی دارند در تصاویرT2 به صورت سیگنال بالا (high signal) هستند؛ در مقایسه بیشتر تومورهای ناحیه سینوس، محتوای آب پایین [31]با میزان سلول بالا (آب داخل و بین سلولی) هستند؛ پس در T2-low SI می افتند؛ بنابراین MRI جهت تشخیص تومور از ضایعات التهابی بهتر است.
تومورهای کوچک نواحی سینونازال معمولا در تصاویر MRI به صورت التهابی یا پولیپوئید میباشند. رادیولوژیست ها دوست ندارند که تومور ها را در عدم حضور درگیری استخوان تشخیص دهند.
در بسیاری از موارد تغییرات استخوانی (تخریب و ریمودلینگ) کمک کننده است در تومورهایی مثل ,SCC اروژن استخوانی شدید با تعدادی از قطعات استخوانی باقیمانده وجود دارد؛ همچنین کارسینومای متاستاتیک، برخی سارکوماها و لنفوماها میتوانند درگیری استخوان داشته باشند در مقایسه بیشتر موکوسل ها، پولیپ ها، پاپیلومای معکوس، ضایعات غدد بزاقی مینور، شواآنوما، پلاسماسایتومای اکسترامدولاری و بیشتر لنفوما، نوروبلاستومای الفاکتوری، همانژیو پری سایتوما در ابتدا تمایل به ریمودلینگ نسبت به تخریب استخوان دارند.(1)
Pattern of bone.invasion on CT and MRI
الگوهای تخریب استخوان شامل موارد زیر است:
1-bone-remodeling 2-cortical.destruction 3-intra-diploic.medullary growth 4- permeative invasion
1-bone-remodeling : شامل جابجایی و معمولا” نازک شدگی دیواره های استخوانی است. در بسیاری موارد در تومورهایی که با دیواره های بسیار نازک مثل صفحه غربالی، لامینا پاپیراسه، توربینانت و دیواره مدیالی سینوس ماگزیلاری تماس دارند، دیده میشوند. ریمودلینگ استخوانی بطور پیوسته و به عنوان یک پروسه تطابقی بین استئوبلاست و استئوکلاستها رخ می دهد. فعال شدن این پروسه بوسیله استرس مکانیکی و اغلب با ضایعات expansile ایجاد می شود که به علت مدیاتورهای شیمیایی است که بوسیله ضایعات عفونی و غیر عفونی التهابی آزاد می شوند. ریمودینگ استخوان یک نوع بالانس بین فعالیت استئوبلاستها و استئوکلاستها است. در نتیجه باعث جابجایی و نازکی ساختارهای استخوانهای ظریف می شوند که این مسئله آمیخته با اسکلروز دیواره های استخوانی هم می باشد.
Special.resoulotionو contrast.resolution بالای CT ارزیابی آنومالی های مخفی را امکانپذیر می کند. درحالیکه دمنیرالیزاسیون مرزهای کورتیکالی نازک در MRI قابل تشخیص نیست.
2-cortical.destruction : درCT بصورت شکستن استخوان مینرالیزه شده از تمام ضخامتش و درMRI بصورت یک نقص درضخامت پیوسته کورتکس هایپواینتنس دیده می شود که تهاجم پریوستئال را نشان می دهد.این مسئله می تواند در ضایعات مهاجم التهابی (مثل رینوسینوزیت مهاجم قارچی و غیرمهاجم) و برخی نئوپلاسمهای خوش خیم مهاجم مثل پاپیلومای معکوس و آنژیوفیبرومای جوانان و تومورهای مهاجم دیده می شود.
3- intra-diploic medullary growth: مسیر گسترش داخل استخوانی است که بوسیله تومورهای بدخیم و آنژیوفیبرومای جوانان ایجاد می شود. دانسیته و سیگنال استخوان اسفنجی بوسیله بافت solidجایگزین شده است. تخریب ترابکولار در تصاویر CT و plain تشخیص داده می شود و جایگزینی چربی مغز استخوان درMRI قابل تشخیص است.
4-permeative .invasion: تهاجم نفوذی با یا بدون الگوی اسکلروزه که بیشتر در لنفوم و [32]A.C.C دیده می شود. در این الگو مرتبط ترین یافته جایگزینی وسیع مغز استخوان بوسیله تومور، حتی در عدم حضور اروژن واضح کورتیکالی است. در این حالت یک نمای ظریف mouth.eaten در پوشش پریوستئال/کورتیکال با سیگنال پایین می تواند دیده شود به شرطی که تکنیکهای تصویربرداری CT و MRI به درستی به کار برده شود. MRI بسیار حساس تر است زیرا اطلاعاتی از توالی های متفاوت آن بدست می آید که در سایر مدالیته های تصویربرداری به خوبی مشخص نمی شود. درT1-plain و T2 دیده میشود که بافت چربی با سیگنال پایین جایگزین مغز استخوان شده است. به علاوه نواحی غیر هموژن از enhancment می تواند پس از کاربرد کنتراست استفاده شود و وقتی بخوبی نمایش داده می شود که در تکنیک FAT-SAT استفاده شود.
-اسکلروزیس: اسکلروزیس وسیع می تواند به خوبی در تصاویر CT آشکار شود. واکنش التهابی مزمن در استخوان اسفنجی حادث می شود؛ بنابراین اسکلروز در یک طیف وسیع از شرایط نئوپلاستیک و التهابی رخ می دهد.(6)
نئوپلاسم های خوش خیم ناحیه سینونازال:
استئوما:
استئوما توموری استئوبلاستیک با رشد آهسته، خوش خیم و با پرولیفراسیون برجسته از استخوان بالغ است. استئوما به سه شکل یافت می شود: 1-سنترال2- پریفرال: رشد متمرکز از پریوست و توسعه بصورت اتصال پلیتهای کورتیکالی می باشد3- خارج اسکلتی.
شیوع دقیق استئوما مشخص نیست زیرا که بسیاری از آنها بدون علایم هستند.(13)
این تومور بیشتر در تابل خارجی کالواریوم[33]، مندیبل و سینوسهای پارانازال یافت می شود و گاهی نیز در استخوانهای توبولار یافت می شود و شایعترین تومور خوش خیم در ناحیه بینی و سینوسهای پارانازال است که در حدود 1% از فیلمهای ساده رادیوگرافی و 3% در CT که برای علایم سینونازال گرفته شده است، یافت میشود.(6) استئوما در استخوانهای غشایی صورت و جمجمه یافت می شود و بیشتر در سینوسهای فرونتال و سپس اتموئید و بعد از آنها به ترتیب در ماگزیلاری و اسفنوئید، به میزان کمتری یافت می شود. شاید دلیل افزایش میزان استئوما در سینوسهای فرونتال و اتموئید آن است که این ضایعات در محل اتصال رشد غشایی و غضروفی استخوانهای فرونتال و اتموئید قرار دارند.(1) استئوما در بین دهه 3و6 (متوسط 40 سال(2)) یافت می شوند و غلبه در مردان حدود 6/2-5/1 برابر است. سرعت رشد استئوما آهسته و حدودmm/y 61/1 می باشد.(1) از نظر هیستولوژی به سه دسته تقسیم می شود: 1-استئومای کورتیکال[34] که از استخوان دنس که فاقد سیستم هاورس است و شامل فقط مقداری از بافت فیبروز می باشد.2- استئومای اسفنجی (استئومای بالغ) که شامل بافت ترابکولار بیشتر و اغلب محتوای مغز استخوانی است بوسیله استخوان اسفنجی بالغ با سیستم هاورسی کوچک احاطه شده است.
3- استئومای mixed که شامل هر دو جنبه کورتیکال و زیرگروههای بالغ آن می باشد.
استئوما توموری در ارتباط با سندرم گاردنر است که این سندرم بوسیله استئومای استخوانی متعدد پولیپ های روده ای و تومورهای بافت نرم متعدد مثل کیست های درموئید و فیبروما و پیگمانتاسیون رتینال در نظر گرفته می شود.(6و14)
استئومای سینوس پارانازال معمولا” بدون علامت هستند و بصورت تصادفی در رادیوگرافی معمولی دیده می شوند تومور با رشد آهسته است که تمایل به جابجایی و فشرده کردن ساختار احاطه کننده (حدود 10% از موارد) و در واقع هر چند کوچک است اما تمایل به بزرگ شدن، اروژن استخوانی مجاور و تجاوز به ساختارهای اطراف در آن دیده می شود. در سینوس فرونتال، یک استئوما می تواند موجب اروژن دیواره خلفی شده و منجر به آنسفالوس خودبخودی و رینوره[35]CSF شود.(14)گسترش داخل چشمی و داخل کرانیالی استئومای سینوس ممکن است به عنوان یک یافته دیر هنگام رخ دهد. استئوما بیشترین تومور در سینوسهای پارانازال است که مرتبط با رینوره CSF و پنوموسفالوس تنشی می باشد.(1) انسداد مجاری درناژ کننده یا استئوم می تواند تکامل سینوزیت یا تشکیل یک موکوسل را حاصل شود.(14)
یافته های تصویر برداری:
تشخیص استئوما در رادیوگرافی معمولی یا CT ساده است.
مکان: بیشتر سینوس فرونتال و اتموئید و به میزان کمتر ماگزیلاری و اسفنوئید را درگیر می کند. ضایعه اغلب محدود به کانتورهای سینوس است.
حدود خارجی: استئوما حدود کاملا” مشخصی دارد.(2)
ساختار داخلی: وابسته به میزان میزالیزاسیون آن است. اگر استئوما دانسیته بالایی راکه شبیه استخوان کورتیکال می باشد، یکدست اپاک دیده می شود یا ممکن است کاهش تدریجی اپاسیته/دانسیته را به سمت الگوی شیشه مات داشته باشد. البته تمام الگوهای مختلف می توانند در یک ضایعه دیده شوند. اختلاف در نوع بافتی استئوما با درجه دانسیته ماتریکس استخوانی است. در CTبا کنتراست هیچگونه enhacmentاتفاق نمی افتد. هرچند که تجویز کنتراست برای بدست آوردن تشخیص ضرورتی ندارد. MRI ذاتا” در تشخیص استئوما اهمیت کمتری نسبت به CT دارد زیرا که هم محتوای آب استئوما کم است و نبودن پروتون های متحرک در داخل استئوما منجر به سیگنال پایین در تمام توالی ها می شود. امکان دارد که میزان کمی بافت چربی در فضای بین ترابکولار منجر به کانونهای پراکنده با سیگنال بالا در هر دو T1وT2 شود. فقط بر مبنای MRI ماهیت استخوانی ضایعه مشخص نمی شود. درCT شواهدی از تحلیل استخوان و تخریب استخوان دیده نمی شود.(1)
درCT با کیفیت بالا که با mutliplanner-reconstruction(MPR) باشد می توان دقیقا” دیواره سینوسی را که استئوما از آن منشا می گیرد، همچنین کامل مشخص کردن مسیر و [36]parency تمام سینوسها و مشخص کردن پیوستگی کامل دیواره های استخوانی مثل لامینا پاپیراسه یا صفحه غربالی نیزCT مورد نیاز است. یک استثناء در مورد جراحی استئوما در مورد سینوس اسفنوئید است که احتمال کوری دارد(13)، میزان عود استئوما پس از برداشتن جراحی کم است. بیمارانی که جراحی نمی شوند یا تومور بطور کامل در آنها برداشته نمی شود تحت فالوی رادیولوژی قرار می گیرند. بیشترین سرعت رشد استئوما در طی دوره رشد اسکلتال می باشد. به همین دلیل رشد ضایعات درمان نشده یا باقی مانده سرعت کمتری در موقع کامل شدن رشد اسکلتال دارد. (6)
A
B
C
D
E
شکل8-1:استئومای سینوس فرونتال واتموئید با گسترش به اربیت(A-E)
A
B
C
D
E
شکل8-1:استئومای سینوس فرونتال واتموئید با گسترش به اربیت(A-E)

پاپیلوما:
از غشای اشنادرین سه نوع پاپیلوما برمیخیزد:1-قارچی 2-معکوس 3-انکوسیتیک که اسامی مذکور بر مبنای تمایل رشدی ضایعات برای آنها انتخاب شده است. این سه ضایعه به دلیل آلرژی یا واکنش به سموم محیطی یا دخانیات نیستند؛ چرا که تقریبا همیشه یکطرفه هستند.
پاپیلومای قارچی و معکوس بیشترین موارد پاپیلوما را در ارتباط با HPV[37] عنوان کرده اند. البته اتیولوژِی ویروسی برای آنها ثابت نشده است زیرا برخلاف سایر عفونت ها ی ویروسی که در بچه ها شایع است، پاپیلوما در بچه ها نادر است.(شکل9-1)
پاپیلومای آندوفیتیک(inverted) : در مردان بین 40-20 سال از دیواره لترالی بینی و نزدیک توربینات میانی و در محل اتصال سینوس های اتموئید و ماگزیلاری که به سمت سینوس گسترده میشود. سینوس های درگیر در این ضایعه ماگزیلاری و اتموئید هستند. درگیری اسفنوئید و فرونتال نیز ثبت شده است.(1)
کارسینومای منشا گرفته از پاپیلوم معکوس(carcinoma-ex-inverted papilloma) در 24-3% موارد رخ داده و بیشتر شامل SCC، کارسینومای وروکوز،SPCC(spindle cell carcinoma) وclear cell carcinoma و آدنوکارسینوما میباشد. کارسینوما میتواند همزمان(synchronous) و یا غیر همزمان(methachronous) باشد.
نوع انکوسیتیک میزان شیوعی به اندازه %3 دارد و از نظر درگیری، جنس و درگیری دیواره لترال بینی شبیه پاپیلوم معکوس است.
تعداد زیادی از موارد با درگیری جایگاه های متعدد همراه است که در بررسی هیستولوژیکی مشخص شده است که آنها در واقع ضایعات تکی بوده اند که مخاط مجاورشان تغییرات متاپلازی پیدا کرده است.
I.P[38] از طریق استئوم سینوس، به حفرات اطراف بدون تخریب دیواره های استخوانی گسترش میابد. تهاجم داخل کرانیوم نادر و معمولا در ضایعاتی که در سطح پلیت غربالی استخوان اتموئید هستند، اتفاق می افتد. توسعه داخل چشمی ممکن است در ضایعاتی که درگیری گسترده اتموئیدال دارند، رخ میدهد هر چند که معمول است که تومور محتویات چشمی را به سمت لترال جابجا کند، بدون اینکه به پری اربیتال تجاوز کند. دو موقعیت کلینیکی وجود دارند که تصویربرداری از آنها احتمال وجود پاپیلوم معکوس را مطرح میکند که در مورد اول احتمال بالایی وجود دارد که ضایعه در screening برای رینوسینوزیت شناسایی شوند و دومی ارزیابی گسترش لوکال یک ضایعه که به وسیله ارزیابی آندوسکوپی شناسایی شده است و در این مورد بیشتر با MRI ارزیابی میشود. تقریبا همه پاپیلوم های معکوس یکطرفه هستند؛ البته درگیری دو طرفه هم گزارش شده است که بیشتر به دلیل پرفوراسیون سپتوم نازال بوده است تا منشا مولتی فوکال واقعی.
شواهد تصویری IP بسته به جایگاه منشا فرق دارد. در CT بیشتر به صورت لوبوله در حالی که در MRI به وسیله الگوهای داخلی خط خط(striated inner pattern) شناسایی میشود. بیشتر IP ها از هر دو سطح دیواره لترالی بینی(نازال و ماگزیلاری) منشا میگیرد؛ بنابراین اپاسیفیه شدن سینوس یکطرفه سینوس ماگزیلا و اتموئید و یک توده نازال فوسا شایع است اما نمای مشخصه نیست.
در CT دانسیته کلسیفیکاسیون در بیش از %50 موارد دیده شده است که بیشتر به صورت مولتیپل و مجزا هستند. در واقع این سپتاهای باقی مانده هستند که نمای کلسیفیکاسیون به ضایعه میدهند، در حالی که جابجایی و ریمودلینگ دیواره سینوسی در همان زمان ممکن است دیده شود. در تشخیص افتراقی IP که از سینوس ماگزیلاری منشا میگیرد باید پولیپ آنتروکونکال، [39]fungus ball و نئوپلاسم های بدخیم و پولیپوز نازال قرار داده شوند. سپتوم نازال دست خورده است و فقط به سمت مقابل کمی کمانی شده است.[40] به طور کلی در تصویر برداری از IP توده ای پولیپوئید و expansile را شاهد هستیم که امکان دارد سقف بینی را ریمودل کرده و به داخل سینوس گسترده شده باشد و باعث سینوزیت التهابی ثانویه شود.
در هنگام ارزیابی IP 2 مسئله وجود دارد:1-تشخیص این ضایعه از ترشحات داخل سینوسی باقیمانده
2-ارتباط آن با چشم و اسکال که MRI به هردوی این مسائل به خوبی پاسخ میدهد.1و6و8
تصویر 9-1:پاپیلوم معکوس.A)نمای کرونال B)ساژیتالC )آگزیال نشان میدهد که یک تو‍ده بافت نرم حفره بینی سمت چپ را درگیر کرده و به نازوفارنکس گسترش یافته است و گسترش یکطرفه به ماگزیلای چپ را نشان میدهد.
تصویر 9-1:پاپیلوم معکوس.A)نمای کرونال B)ساژیتالC )آگزیال نشان میدهد که یک تو‍ده بافت نرم حفره بینی سمت چپ را درگیر کرده و به نازوفارنکس گسترش یافته است و گسترش یکطرفه به ماگزیلای چپ را نشان میدهد.

آدنوم پلئومورفیک(mixed-tumor)
این تومور پس ازاستئوما و پاپیلوم معکوس، شایعترین تومور خوش خیم در ناحیه سینونازال می باشد. بیشتر پلئومورفیک آدنوماها منشایی از غدد بزاقی ماژور دارند در صورتی که حدود 10% آنها از غدد بزاقی مینور منشا می گیرند که بیشترین مکان آنها کام سخت و نرم هستند و بطور نادرتر در غدد اشکی لارنکس، فارنکس، سینونازال و تراشه ایجاد می شوند. در مطالعات موارد درگیر در سینونازال بیشترین منطقه ابتلا سپتوم نازال و پس از آن سینوس ماگزیلاری (در 5/1 % موارد دیواره لترالی) می باشد. بیشترین دهه درگیر دهه 5 و با تمایل اندک به زنان می باشد. (تصویر10-1)
یافته های تصویربرداری:
توده بافت نرم و با حدود مشخص، بطور معمول از سپتوم نازال منشا می گیرد. در تصویربرداری از تومورهای غدد بزاقی به طور مشخص، آدنوم پلئومورفیک استخوان را ریمودل میکند. برخلاف اغلب تومورها که به صورت توده پولیپوئید ظاهر میشوند؛ اغلب تومورهای بینی به صورت یک توده گرد (spherical) هستند که هرگاه چنین حالت گردی در تصویربرداری دیدید در تشخیص افتراقی شوآانوما و تومور غدد بزاقی مطرح میشوند. در CT تومورهای غدد بزاقی کمتر سلولار و به صورت غیر هموژن ظاهر میشوند چرا که دارای استرومای مزانشیمال، دژنراسیون کیستی، نکروز یا تجمع موکوس یا سروز هستند.
تومورهای پرسلول یک نمای هموژنوس دارند و ممکن است منجر به برخی اروژن های استخوانی شوند.
در تصویربرداری MRI این تومورها سیگنال متوسطی را در T1 دارند در حالی که سیگنال T2 وابسته به سلولاریتی متفاوت است، انواع پر سلول سیگنال متوسط دارند؛ در حالی که انواع استرومال یا کمتر سلولار سیگنال بالایی دارند. یافته های تصویربرداری تومورهای پلئومورفیک بدخیم غیراختصاصی و شبیهSCC هستند. گاهی در تصویربرداری مارژین های کمتر تهاجمی نسبت به SCC دارند؛ هر چند که این یافته برای تشخیص افتراقی کافی نیست. (1و6و8)
تصویر 10-1: :CT آگزیال که توده ندولار بافت نرم پلئومورفیک آدنوما که باعث جابجایی سپتوم شده است.
تصویر 10-1: :CT آگزیال که توده ندولار بافت نرم پلئومورفیک آدنوما که باعث جابجایی سپتوم شده است.

(GCG) Giant.cell (reparative) granoluma
پدیده ای با اتیولوژی نامعلوم است که ممکن است استخوانهای فکی را درگیر کند که در این صورت به آن ژانت سل گرانولومای مرکزی یا CGCG گویند و یا ممکن است بافت نرم داخل دهانی را درگیر کند که در این صورت به ژانت سل گرانولومای محیطی یا [41] PGCGمیگویند. PGCG بیشتر در دهه 4 زندگی رخ می دهد و 4 برابر شیوع بیشتری از نوع سنترال دارد البته رنج نسبی وسیعی دارد. این ضایعه شامل یک بافت تورمی است که از لثه به ندرت به بافت زیرین می رسد. بنابراین از نظر رادیوگرافی به سختی تشخیص داده می شود.PGCG ممکن است اتیولولوژی وابسته به تروما داشته باشد که شامل کشیدن دندان یا دنچر لق می باشد. یک تمایل به جنس مونث دارد که احتمال حساسیت هورمونی در آن بالاست.CGCG وابستگی قبلی به تروما ندارد که بصورت یک ضایعه داخل استخوانی مخرب و تورمی است و در اینجا هم تمایل به زنان دارد اما طیف وسیعی از موارد قبل از دهه 4 رخ می دهد. بیشتر در دو دهه اول زندگی و در مندیبل در قدام مولر اول و در ماگزیلا در قدام دندان کانین رخ می دهد. از نظر رادیولوژی در تصویربرداری plainاغلب به صورت مولتی لاکونار و تورمی دیده می شود.(1) چون ضایعه رشدی آهسته دارد در مندیبل اغلب حاشیه مشخص و واضح دارد و اغلب کورتیکاسیون ندارد ولی ضایعات در ماگزیلا حدود نا مشخصی دارند و بوردرهایشان نمای بدخیمی را تقلید می کند. از نظر ساختار داخلی برخی از CGCGها کاملا” لوسنت هستند (بخصوص موارد کوچک بقیه موارد طرح گرانولر ظریفی از کلسیفیکاسیون دارند که برای مشاهده نیاز به نور شدیدی هست. گاهی این استخوان گرانولر به سپتومهایwispy و نامشخص تبدیل می شود که اختصاصی اند. بخصوص اگر عمود برحاشیه به سمت داخل بروند. این خصوصیت زمانی خیلی مشهود است که یک تورفتگی کوچک از استخوان مارژین کورتیکال در محلی که سپتای عمود خارج می شود دیده می شود. گاهی سپتاها واضح ترند و نمای چند حجره ای دارند. ضایعه اغلب دندانهای مرتبط را جابجا می کند و گاهی تحلیل می برد که این تحلیل شدید و با حاشیه نامنظم است. از بین رفتن لامینا دورا دندانهای درون ضایعه، جابجایی تحتانی کانال آلوئولار، ایجاد اتساع دیواره کورتیکالی ماگزیلا و مندیبل که اتساع اغلب مواج و نا صاف است که در نمای اکلوزال دو لایه دیده می شود. در ماگزیلا می تواند نمای بدخیمی به خود بگیرد.(2)(تصویر11-1و12-1)
A
B
تصویر11-1:
A)CBCT کرونال B) آگزیال از CGCG گسترش یافته به سینوس ماگزیلا
A
B
تصویر11-1:
A)CBCT کرونال B) آگزیال از CGCG گسترش یافته به سینوس ماگزیلا

تصویر 12-1:تصویر(a) CBCT آگزیال یک توده بزرگ ومتسع شونده CGCG را درسمت راست ماگزیلا نشان میدهد،تصاویر b,c,d نشان دهنده توده متسع شونده و پان سینوزیت در سینوس ماگزیلاری هستند
تصویر 12-1:تصویر(a) CBCT آگزیال یک توده بزرگ ومتسع شونده CGCG را درسمت راست ماگزیلا نشان میدهد،تصاویر b,c,d نشان دهنده توده متسع شونده و پان سینوزیت در سینوس ماگزیلاری هستند

PREPHERAL NERVE SHEAT TUMOR (SCHAEANNOMA):
این تومورها رشد آهسته و کپسول دار و slow-growing هستند. (8) PNST کاملا در سروگردن شایع (حدود 40%) هستند و در ناحیه سینونازال 4% شیوع دارند.(1) بیشتر در کمپلکس اتموئید حادث میشوند و پس از آن به ترتیب در سینوس ماگزیلاری، سپتوم نازال و سینوس اسفنوئید. تصور میشود که برخی از موارد شوآنومای مسیر سینونازال با سندروم Von.Reckling.hausen مرتبط است ولی بیشترین در گیری مسیر سینونازال در فرم منفرد است. شوانوما به عنوان توموری که کاملا از سلول های پشتیبان اعصاب بدون عناصر عصبی تشکیل شده است که در واقع یک تومور با رشد آهسته که در بیماران 60-30 سال (متوسط4/48 سال ) رخ میدهند که 4-2 برابر در زنان بیشتر از مردان یافت میشود. (6) جایگاه های شایع عصب واگ و زوج 8 است. این تومور از این جهت که باعث کمانی شدن دیواره قدامی و خلفی سینوس ماگزیلاری میشود، میتواند مشابه آنژیوفیبروما باشند، اما آنها معمولا فیشور پتریگوپالاتین را درگیر نمی کنند .(8) از نظر هیستولوژی، شوانوما دو جز ماژور دارد: آنتونی A: نواحی که به وسیله فشردگی elongated.spindle cell شناخته میشود (جز high cellular ) آنتونیB: که به وسیله loose.myxoid.stroma با تعداد سلول های spindle cell کم و نواحی cystic بیشتر شناخته میشود. این واریاسیون در نمایCT آنها نمایان است که توده های ovoid هموژن(expansile) با میزان enhancingمتغیر تا ضایعات کیستی اولیه که در CTبا کنتراست در 3/1 موارد بیشتر از ماهیچه ،3/1مشابه ماهیچه ،3/1 حالت کیستیک اولیه را نشان می دهند. یافته های MRIشواهد هیستولوژیکی ضایعه را منعکس میکنند.(شکل13-1) و (شکل14-1)
برخی از یافته های CT که ویژه هستند و به دلیل تنوع پاتولوژیک ایجاد میشوند:
به طور کلی نواحی آنتونی A و کلاژن دار مرتبط با مناطق با دانسیته بالا هستند؛ مناطق آنتونی B ( خونریزی و تغییرات کسیتیک مرتبط با مناطقی با دانسیته پایین هستند.(6)
تصویر13-1:CT با کنتراست، آگزیال توده غیرهموژن شوآنوما که قسمت خلفی حفره بینی و سینوس اسفنوئید را اشغال کرده است
تصویر13-1:CT با کنتراست، آگزیال توده غیرهموژن شوآنوما که قسمت خلفی حفره بینی و سینوس اسفنوئید را اشغال کرده است

A
B
تصویر 14-1: CBCT : A)کرونالB )آگزیال از شوآنومای درگیر کننده سینوس
A
B
تصویر 14-1: CBCT : A)کرونالB )آگزیال از شوآنومای درگیر کننده سینوس

نوروفیبروما:
تومور خوش خیم و غیر کپسوله و با حدود مشخص است که از نظر هیستولوژی تقریبا یونی فرم است و متشکل از سلول های فیبروبلاست و عناصر عصبی در داخل یک ماتریکس کلاژنه است. ضایعه میتوانند منفرد یا متعدد باشد. اگر نوروفیبروما در جوانان باشند؛ وقوع سایر تومورها همراه با نوروفیبروماتوزیس یا سندروم von.Reckling را خبر میدهند. (یادآوری: سندروم von.Reckling.hausen به صورت آتوزومال غالب با میزان وقوع متغیر است که شامل لکه های شیر-قهوه ای نوروفیبرومای متعدد و ضایعات استخوانی مشخصه است.)
حدود %8 وقوع بدخیمی برای این تومور عنوان شده است. این تومور محدود به پریفورم باقی می ماند و مثل یک عصب بزرگ(Giant Nerve) میباشد یا شبیه bag of warms[42] یا String [43]of bead است.
نوروفیبروما نمایCT متغیری دارد که وابسته به دژنراسیون کیستیک و جایگزینی چربی در داخل ضایعه است. در CT با کنتراست به صورت هموژن enhanceمیشود که شامل نواحی متعدد کیستیک هستند، با غلبه تضعیف چربی. درجه جایگزینی چربی در نوروفیبروما ممکن است آنقدر زیاد باشد(چندین برابر شوآنوما) که رادیولوژیست به اشتباه آن را لیپوم فرض کند. نوروفیبروما استخوان را ریمودل میکند و باعث تضعیف مخرب استخوانی نمی شود.(شکل15-1) آنها به طور بیضی و سخت هستند و مارژین های مهاجمی ندارند. اگر استخوان تخریب شود، احتمال دژنراسیون بدخیم در نظر گرفته میشود. در MRI به صورت یک توده غیر هموژن در نظر گرفته میشود که در سیگنال T1سیگنال متوسط و در T2سیگنال بالا دارد.(تصویر15-1)
تصویر15-1:CTنوروفیبروما. کرونال،اپاسیفیکاسیون دوطرفه سینوس ماگزیلاری ودرگیری دیواره مدیالی بدون تخریب استتخوان
تصویر15-1:CTنوروفیبروما. کرونال،اپاسیفیکاسیون دوطرفه سینوس ماگزیلاری ودرگیری دیواره مدیالی بدون تخریب استتخوان

ضایعات و تومورهای ادنتوژن
کیست های ادنتوژنیک:
این گروه شایعترین ضایعات خارجی هستند که به سینوسها ( بویژه سینوس ماگزیلاری) می رسند که شایعترین آنها کیست رادیکولر و بعد از آن کیست دانتی ژور(فولیکولار) و سپس KCOT می باشند. با رشد کیست ادنتوژنتیک، جداره آن از جداره سینوس غیر قابل افتراق می شود. با ادامه رشد کیست کل فضای سینوس را اشغال می کند، حاشیه آن را جابجا کرده و مقدار هوای داخل سینوس را کاهش می دهد. خط نازک رادیواپاکی که محتویات کیست و حفره سینوس را تقسیم می کند. این نما برخلاف.کیست باقیمانده است که اطرافش کورتکسی ندارد.
Imaging .findings: کیست های فرورونده به داخل سینوس (invaginating) شکل انحنادار یا بیضی با حدود کورتیکال و ساختار داخلی هموژن و دارای اپاسیتی نسبی (نسبت به هوای داخل سینوس) هستند که این درجه اپاسیته ناشی از کنتراست شدید استخوان در مقابل هوای داخلی سینوس است. کیست قادر به جابجایی کف سینوس است، همچنین کیستهایی مثل دانتی ژور یا KCOT قادر به جابجایی مولر سوم تا کف اربیت هستند. گاهی کیست به حدی بزرگ می شود که یک لایه نازک هلالی (crescent) از هوا مجاور کیست خواهد بود.
کیست رادیکولار:(پریودنتال کیست، پری آپیکال کیست،apical.periodontal.cyst) ).
شایعترین کیستهای فکی و شایعترین کیستهای ادنتوژن در سینوس هستند. آنها اکثرا” مرتبط با دندانهای پوسیده و عفونی و پالپ نکروز (غیرزنده ) می باشند. این کیست ها و بیشتر در دندانهای ماگزیلاری رخ می دهند و در نتیجه می توانند کف سینوس را ارود کرده و دیواره آنتروم را ریمودل کنند و کورتکس تحتانی سینوس را بلند کنند؛ کیست باقیمانده به کیست های پری آپیکال دندان پس از کشیدن دندان مربوطه اشاره دارد. در کیست های باقی مانده طولانی مدت کلسیفیکاسیون دیستروفیک مشهود است و پتانسیل تورم بیشتری نسبت به کیست هایی مثل KCOTدارد و قدرت تهاجم به سینوس را نیز دارد. به دلیل انحراف دیستالی دندانهای لترال ماگزیلا، کیست هایی که از این دندان منشا می گیرند می توانند به داخل آنتروم گسترش یابند. بروز این کیستها در مردان در دهه 6-3 بیشتر است. حدود این کیستها اکثرا” کورتیکال و مشخص هستند ولی در موقع بروز عفونت، واکنش التهابی اطراف باعث فقدان کورتکس می شود یا کورتکس را اسکلروتیک تر می کند. حدود کیست منحنی یا حلقوی است مگر اینکه بوسیله ساختمانهای اطراف تحت تاثیر قرار بگیرد. ساختار داخلی این کیست اغلب رادیولوسنت است ولی در موارد کیستهای طولانی مدت کلسیفیکاسیون دیستروفیک ایجاد رادیواپاسیته های کوچک و پراکنده می کند. یک کیست رادیکولار بزرگ درگیرکننده سینوس، در هنگام پس رفت شروع به ساخت استخوان جدید می کند که می تواند بررسی های بافت شناسی و بیوپسی را به سمت خطای تشخیص فیبروم اسیفیه یا ضایعه فیبرواستئوس خوش خیم ببرد از نظر رادیوگرافی این یافته مهم است که همیشه استخوان جدید در ابتدا اطراف دیواره کیست به دنبال منقبض شدن کیست شکل می گیرد و الگوی متفاوتی از ضایعات فیبرواسئوس دارد مثل نمای چرخ درشکه[44] این کیستها در صورت بزرگ بودن جابجایی، تحلیل دندانهای مجاور بصورت الگوی انحنادار و تهاجم به سینوس مشهود است.(2) (شکل16-1) کیست باقی مانده در تمام موارد داخل استخوانی است و یک مورد کیست باقیمانده بافت نرم گزارش شده که به دلیل تروما در هنگام کشیدن دندان اپیتلیوم در زیر پریوست کاشته شده و منجر به ایجاد کیست در بافت نرم شده است. (15)
تصویر16-1: CBCT کرونال از کیست رادیکولار در حال ترمیم
تصویر16-1: CBCT کرونال از کیست رادیکولار در حال ترمیم

کیستهای دانتی ژور(فولیکولار)
دومین کیست شایع فکین است. این کیست در اطراف تاج دندان رویش نیافته یا اضافی شکل می گیرد (5% و اغلب مزیودنس)، موقعیت این کیست پری کرونال است و شایعترین دندانهای درگیر مولر سوم مندیبل یا ماگزیلا و کانین ماگزیلا می باشند. این کیست به [45]CEJ متصل است. کیستهایی که در ارتباط با مولر سوم ماگزیلا هستند اغلب در سینوس ماگزیلا رشد کرده و بزرگ می شوند. این کیست نیز حدود کورتیکال مدور و انحنادار، لوسنت، توانایی جابجایی و تحلیل (مثلا” جابجایی مولر سوم ماگزیلا به داخل کف اربیت) را دارد. این کیست قادر به جابجایی کف سینوس ماگزیلا است.
چندین گزارش در مورد وقوع نئوپلاسم هایی مثل [46]AOT،MEC[47] و آملوبلاستوما برخاسته از اپیتلیوم کیست دانتی ژور گزارش شده است. این کیستها در نژاد آمریکایی-آمریکا شیوع بیشتری دارند در مردان بین دهه 4-2 تشخیص داده می شوند. کیست های کوچک از نظر رادیوگرافیکی تک حفره ای و کیست های بزرگ چند حفره ای هستند. تحلیل در دندانهای مجاور کیست رخ می دهد. نمای رادیوگرافیکی در سینوس به این صورت است که اگر کیست سینوس ماگزیلا را ارود کند، رشد سریع کرده و باعث ریمودلینگ دیواره های سینوس می شود. معمولا” کورتکس تحتانی سینوس در بالای اجزای کیستی قرار دارد. در نمای آگزیال دو دیواره استخوان[48] دیده می شود که دیواره خلفی همان دیواره خلفی سینوس و دیواره قدامی تر کورتکس تحتانی بلند شده است. فولیکولار کیست می تواند وابسته به [49]supernumeraryباشد اگر چندین کیست دانتی ژور یافت شود. بیمار از جهت ابتلا به سندروم بازل سل نووس باید بررسی شود. در MRI محتویات کیست در T1 سیگنال متوسط و در T2 سیگنال بالا دارد و دندان جابجا شده در تمام تصاویر بدون سیگنال[50] است که شبیه آسپرژیلوس آنترال[51]می باشد. اگر در جدار کیست دانتی ژور آملوبلاستوما رشد کند فقط از نظر پاتولوژیکی قابل اثبات است ولی از نظر رادیولوژی مثل کیست دانتی ژور ساده هستند و تمایل فامیلیال به این قضیه وجود دارد. ریتنشن سودوکیست ظاهر متفاوتی از این کیست دارد زیرا که کورتکس در اطراف خود ندارد.(1)
(شکل17-1)
تصویر 17-1:CBCT آگزیال از کیست دانتی ژروس long-stand با اسکلروز واکنشی استخوان اطراف
تصویر 17-1:CBCT آگزیال از کیست دانتی ژروس long-stand با اسکلروز واکنشی استخوان اطراف

Related posts:

– (88)

در این فصل پس از ارائه نتایج تمام آزمایش های صورت گرفته بر بتن های نگهداری شده در محیط استاندارد، آب نمک، چرخه همزمان نفوذ یون کلراید و کربناسیون و تحت اعمال کربناسیون به تنهایی، تمامی نتایج تحلیل و بررسی شده است. فصل ششم “نتیجه گیری و پیشنهاد ” در این فصل سعی شده نتایج […]  ادامه مطلب ...

– (89)

اهداف پایان نامهدر این پایان نامه بررسی کربناسیون و نفوذ یون کلرید به طور همزمان بر روی بتن های با نسبت آب به سیمان مختلف و همچنین بتن با دوده سیلیس و بتن خودتراکم صورت خواهد گرفت و سپس به مدلسازی و ارائه مدلی که بتواند جوابگوی شرایط واقعی محیطی که بتن در آن قرار […]  ادامه مطلب ...